クロムは銀白色の遷移金属であり、現代の材料科学の礎です。その卓越した硬度と優れた耐食性により、ステンレス鋼、高強度合金、および高度な電気めっきの製造に不可欠です。薄膜技術およびマイクロエレクトロニクスの分野では、クロムスパッタリングターゲットは、高い膜均一性と品質を達成するために不可欠であり、高精度電子部品の製造に必要な重要な信頼性を提供します。
クロムロータリーターゲットは、高度な溶射プロセスによって製造され、相対密度95%を達成しています。この製造方法は、高い効率と短いリードタイムを保証し、大規模な運用に significant なコストメリットをもたらします。これらのターゲットは、最大4,000mmの長さで製造可能です。
平面ターゲットは、厳格なホットプレスおよび焼結接合プロセスを通じて製造され、超低酸素含有量と卓越した膜輝度を実現します。寸法は、特定の装置要件および顧客仕様に合わせてカスタマイズ可能です。
l 高い硬度、高い密着性
析出されたクロム膜は、優れた硬度と卓越した密着性を示し、優れた耐摩耗性を備えた堅牢な表面を提供します。この高性能プロファイルにより、コーティングは厳しい機械的ストレス下でも回復力を維持します。
l 強力な耐食性
クロム膜は、酸化および酸塩基環境に対する良好な耐性を持ち、過酷な作業条件に適しています。
l 良好な電気伝導性と熱安定性
電気部品および高温環境用の機能性膜材料に広く使用されています。
クロムターゲットの幅広い用途
l 半導体製造
パッケージングデバイスの耐食性および耐傷性を向上させ、耐用年数を延ばし、半導体の小型化および高密度パッケージングのニーズに対応します。
l 装飾コーティング
装飾分野では、時計や家電製品などの製品の真空クロムめっきに適用され、美観と耐食性を兼ね備えています。