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商品の詳細

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金属スパッタリングターゲット
Created with Pixso. 金属ニオブスパッタリングターゲット 高密度 低抵抗 Nbターゲット
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
パラメータ:
密度
価値:
スプレーコーティングされたニオブ ターゲット: 密度: >8g/cm3 溶融ニオブ ターゲット: 密度: 8.57g/cm3
名前:
ニオブターゲット (Nb)
形成プロセス:
スプレー、溶解
製品仕様:
フラットターゲット、ロータリーターゲット
アプリケーションシナリオ:
半導体製造、光学デバイス製造、装飾コーティング
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:

金属ニオブスパッタリングターゲット

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ニオブ Nbターゲット

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高密度 Nbターゲット

製品の説明

高純度ニオブ金属(純度 > 99.95%)で作られたニオブターゲット。ニオブは銀灰色の希少で柔らかく展延性の高い遷移金属で、融点(2468℃)が高く、耐食性(室温での強酸・強アルカリ腐食に対する耐性「0.01 mm/年未満」)に優れ、導電性も良好です。ニオブターゲットは99.95%を超える純度レベルを達成し、精製された結晶粒径と完全に再結晶した微細構造を特徴としています。この材料は優れた三軸方向の一貫性を示し、カソードスパッタリングターゲットとして、非常に均一な酸化膜の形成を促進します。この不活性な保護層は大気中の元素と反応せず、長期的な表面安定性を保証します。

ニオブターゲットの優れた特性

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装飾コーティング l

 

 装飾コーティング l

 

 装飾コーティング ニオブターゲットの幅広い用途

 

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装飾コーティング ニオブターゲットはチップ製造において重要な役割を果たします。マグネトロンスパッタリングにより、シリコンウェハー上に200nmという薄さのニオブ薄膜を成膜できます。この超薄膜コーティングは、集積回路の導電性と耐食性を効果的に向上させ、5Gチップやメモリデバイスのコア材料の1つとなっています。


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装飾コーティング ニオブターゲットと光学コーティング技術が組み合わさることで、顕著な化学反応が生まれます。


カメラレンズコーティング:光透過率を99.7%に向上させます。

 

ARグラスコーティング:選択的な光透過を可能にします。

 

レーザーミラー:1800℃までの高温に耐えます。

 

これらの特性により、ニオブターゲットはスマートフォンカメラから望遠鏡に至るまで、幅広い用途に不可欠となっています。

 

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装飾コーティング ニオブターゲットは、そのユニークな色調整能力と優れた性能により、装飾コーティングで高く評価されています。陽極酸化またはマグネトロンスパッタリングにより、ニオブコーティングは青、紫、金などのさまざまな色を表示でき、同時に耐食性、高硬度、生体適合性を提供します。高級時計、宝飾品、電子製品、医療美容機器の装飾コーティングに広く使用されています。