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商品の詳細

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金属スパッタリングターゲット
Created with Pixso. 合金ターゲット ニッケルクロム補給ターゲット(NiCr補給ターゲット)
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
純度:
99.9%-99.99%
比例:
一般的な比率: 80:20、60:40 (カスタマイズ可能な比率)
名前:
合金ターゲット ニッケルクロム補給ターゲット(NiCr補給ターゲット)
形成プロセス:
プレス、焼結
製品仕様:
平面ターゲット、回転ターゲット、不規則な形状のターゲット
応用分野:
電子情報産業、エネルギー分野、航空宇宙および高温アプリケーション、精密製造およびその他のアプリケーション
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:

ニッケルクロム補給ターゲット

,

NiCr 供給ターゲット

,

ニッケルクロムターゲット

製品の説明

ニッケルクロムスパッタリングターゲットは、主にニッケル(Ni)とクロム(Cr)で構成される合金ターゲットであり、高い抵抗率、耐食性、耐摩耗性を兼ね備えています。Ni/Cr比の調整や微量元素(Si、Alなど)の添加により、精密抵抗、高温コーティング、装飾用耐摩耗性などのさまざまな用途のニーズに合わせて精密に調整できます。

ニッケルクロムスパッタリングターゲットの主な利点高抵抗率の安定性と低い抵抗温度係数(TCR)を活用した精密伝導およびセンシングのコア材料として、ニッケルクロム合金は高性能電子機器における正確な電気伝導と信頼性の高い信号分離を保証するために不可欠です。

 

 高い抵抗率と低い温度係数(TCR)を備えており、精密な電気伝導ニーズに適しています。


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 強力な耐食性と高温耐酸化性を備えており、複雑な環境に適しています。


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 ニッケルクロム膜は高い硬度と強力な密着性を持ち、精密加工に適しています。


ニッケルクロムスパッタリングターゲットの主な応用分野

 

lエレクトロニクスおよび情報産業高抵抗率の安定性と低い抵抗温度係数(TCR)を活用した精密伝導およびセンシングのコア材料として、ニッケルクロム合金は高性能電子機器における正確な電気伝導と信頼性の高い信号分離を保証するために不可欠です。

 

 エネルギー分野


NiCr膜は、エネルギー貯蔵および太陽光発電において、堅牢で耐食性のある導電性コンポーネントとして重要です。バックコンタクト層として、NiCrは高い導電性と優れた耐候性を両立させ、長期的な屋外展開中の環境劣化から電極を保護します。さらに、界面バッファ層としての役割は、吸収体と電極間のエネルギー障壁を最適化し、キャリア輸送と全体的な電力変換効率を大幅に向上させます。

 

 

 航空宇宙および高温用途


ニッケルクロムスパッタリングターゲットは、航空宇宙エンジンのタービンブレード、燃焼室、その他のコンポーネントに使用される熱障壁コーティング(TBC)ボンディング層の製造におけるコア材料です。これらのコーティングは、硫黄、バナジウム、その他の攻撃的な媒体による腐食を効果的にブロックし、コンポーネントの寿命を300%以上延長します。

 

 

 精密製造およびその他の用途


耐摩耗性コーティングおよびセンシング用途。