オプトエレクトロニクス分野向け高純度酸化チタンTiOxセラミックターゲット

酸化チタンターゲットは、ホットプレス焼結や冷間等方圧プレスなどのプロセスで製造される高純度二酸化チタン（TiO₂）から作られたセラミックターゲットです。高硬度、高融点（約1855℃）、優れた化学的安定性といった特性を持ち、マグネトロンスパッタリングによる光学膜や機能性膜の製造に不可欠な材料です。

酸化チタンターゲット（TiOx）の優れた特性

l 高純度が膜質を保証

酸化チタンターゲットは通常、純度99.9%以上で、不純物含有量が非常に低く、膜欠陥を効果的に低減し、光学特性および電気特性の安定性を向上させます。

l 優れた化学的安定性

酸化チタンターゲットは酸やアルカリの腐食に強く、高温や高湿といった過酷な環境下でも安定した性能を維持し、膜の寿命を延ばします。

l 優れた光学特性

高い屈折率と優れた透過率を持ち、反射防止膜（AR）、反射防止コーティングなどに適した高性能光学膜の製造を可能にします。

l 高密度で均一な微細構造

高度な成形・焼結プロセスを使用することで、酸化チタンターゲット材料は微細で均一な粒子を持ち、安定した膜堆積速度と良好な膜厚の一貫性を保証します。

l 良好な機械的強度と耐熱性

融点が約1855℃である酸化チタンターゲットは、高出力スパッタリング条件下での亀裂や損傷に強く、長期間の連続生産に適しています。

 酸化チタンターゲット（TiOx）の幅広い用途

l 光学デバイス製造

酸化チタンターゲットは、光学レンズ、反射防止膜（ARコーティング）、反射防止フィルム、光学フィルター用の高屈折率膜の製造に使用され、光透過率と画像品質を向上させます。

l 太陽光発電産業

透明導電膜（TCO）の保護層または機能層として使用され、酸化チタンターゲットは光吸収効率とデバイス安定性を向上させ、太陽電池や光触媒膜の製造に広く使用されています。

l 半導体製造

酸化チタンターゲットは、誘電体層、保護膜、絶縁材料として使用され、チップや電子デバイスの安定性と絶縁性能を向上させます。

l 低放射（Low-E）省エネルギーガラス

酸化チタンターゲットは、ガラスの断熱性と光透過率を向上させるために設計された主要な機能層材料として機能します。これらの特性はエネルギー消費を効果的に削減し、高度な建築用省エネルギーソリューションに広く応用されています。