크롬 스퍼터링 타겟 (Cr 스퍼터링 타겟), 순도: 99.5%-99.95%

크로뮴은 높은 경도와 내식성으로 알려진 은백색 전이 금속입니다. 스테인리스강, 고강도 합금 및 전기 도금에 널리 사용됩니다. 박막 기술 및 마이크로 전자 공학에서 크로뮴 스퍼터링 타겟은 기능성 및 보호용 크로뮴 코팅을 증착하기 위한 소스 재료를 제공하며, 필름 균일성과 일관된 코팅 품질을 지원합니다.
당사의 크로뮴 스퍼터링 타겟은 다양한 장비 사양 및 증착 요구 사항을 충족하기 위해 회전식 및 평판형 구성으로 제공됩니다.

제품 옵션

회전식 크로뮴 타겟

크로뮴 회전식 타겟은 고급 열 분사 공정을 사용하여 제조되며, 상대 밀도는 95%입니다. 이 생산 방식은 효율적인 제조 및 짧은 리드 타임을 지원하여 대규모 운영에 비용 이점을 제공합니다.

이 타겟은 최대 4,000mm 길이로 생산될 수 있으며, 다양한 산업용 코팅 시스템에 적용 가능합니다.

평판형 크로뮴 타겟

평판형 크로뮴 타겟은 제어된 열간 압축, 소결 및 본딩 공정을 통해 제조되어 초저 산소 함량을 달성하고 밝은 크로뮴 필름 증착을 지원합니다.

치수는 특정 장비 요구 사항 및 고객 사양에 맞게 맞춤 설정할 수 있습니다.

크로뮴 스퍼터링 타겟의 우수한 특성

l 높은 경도, 높은 접착력

증착된 크로뮴 필름은 적절하게 준비된 기판에 높은 경도와 강한 접착력을 제공합니다. 이러한 특성은 내마모성을 향상시키고 까다로운 기계적 조건에서 코팅 내구성을 유지하는 데 도움이 됩니다.

l 강력한 내식성

크로뮴 필름은 내식성 및 내산화성을 제공하여 까다로운 작업 환경에서 코팅된 표면을 보호하는 데 도움이 됩니다. 성능은 코팅 구조, 증착 조건 및 화학적 노출에 따라 달라집니다.

l 우수한 전기 전도성 및 열 안정성

크로뮴의 전기 전도성 및 열적 특성은 전자 부품의 기능성 박막 및 고온 관련 응용 분야에서의 사용을 지원합니다.

크로뮴 스퍼터링 타겟의 광범위한 응용 분야

l 반도체 제조

크로뮴 스퍼터링 타겟은 반도체 부품 및 전자 패키징을 위한 기능성 및 보호용 필름을 증착하는 데 사용됩니다. 적절한 코팅 설계는 표면 내구성 및 긁힘 및 부식에 대한 저항성을 향상시켜 정밀 전자 부품의 신뢰성을 지원합니다.

l 장식 코팅

크로뮴 스퍼터링 타겟은 시계, 가전 제품 및 기타 소비자 제품의 진공 코팅 공정에 사용됩니다. 증착된 필름은 시각적 매력과 내식성 및 표면 보호를 결합한 밝은 금속 마감을 만듭니다.