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제품
스퍼터링 타겟 재료
실리콘 스프터링 타겟 (Si 스프터링 타겟)
중국 구리 스퍼터링 타겟(Cu 스퍼터링 타겟)
ITO(인듐 주석 산화물) 스퍼터링 타겟
고순도 티타늄 스퍼터 타겟(Ti Sputter Target)
세라믹 타겟
고순도 산화알루미늄 스퍼터링 타겟(Al2O₃ Sputtering Target)
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산화아연 스퍼터링 타겟(ZnO Sputtering Target)
인듐 세륨 산화물 스퍼터링 타겟(ICO 스퍼터링 타겟)
고저항 스퍼터링 타겟 (GXO 스퍼터링 타겟)
실리콘 카바이드 스퍼터링 타겟(SiC 스퍼터링 타겟)
금속 스퍼터링 타겟
하프늄 스퍼터링 타겟 (Hf)
PVD 코팅용 울프렌 스프터링 타겟 (W)
아연 스퍼터링 타겟(Zn Sputtering Target)박막재료
고순도 지르코늄 스퍼터링 타겟(Zr Sputtering Target)
고강도 금속 스프터링 타겟 마모 저항 WC 텅프렌 탄소 타겟
고순도 티타늄 알루미늄 스퍼터링 타겟(TiAl Sputtering Targets)
증발재료
알루미늄 실리콘 혼합물 금속 재료 목표 파우더 금속공학 열 압축 시너링
진공 코팅을 위한 고리 모양의 쿼츠 SiO2 스프터링 타겟
무기 증착 재료 고굴절률 산화 니오븀 Nb2O5
박막 증착 스퍼터링 재료 인듐 블록
광학 장치 반도체용 고순도 오산화 탄탈럼 Ta2O5
과도기 금속 산화물 증발 물질 티타늄 펜토오кси드 Ti3O5
스프터링 타겟 결합 서비스
PVD 코팅 필드에 대한 평면 표적 결합 서비스
정밀 물 채널 스프터링 표적 뒷판 접착력> 98%
코팅 생산 라인 스프터링 타겟 결합 서비스 로터리 타겟 결합
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