해결책
2026-03-26
반도체
주요 목표물:Cu,Ti,W,SS,AI,Si,Ni,Mo,Cr,Ta,Ag,Au,Pt,Ir,Sc,AISC,NiFe,NiCr,NiCu,WTi,AICu,PZT,LNO,NiV 증발 재료:Cu, Ni, Ti, W, AI, Mo, Cr, Ta, Ag, Au, Pt, Ir, Y 이 대상 물질은 반도체 제조에 있어서 중요하고 필수적인 부품입니다. 그들은 진보된 포장, 세 번째 세대 반도체, MEMS 장치,각종 전자 부품물리적 증기 퇴적 (PVD) 스프터링을 통해, 이 물질은 웨이퍼 및 기판 표면에 필수 전도성, 장벽, 단열 및 기능적 필름을 형성합니...
2026-03-27
광전지 태양전지
주요 타겟 재료:AMTO, ICO, IXO, ITO, AZO, MZO, CTO, ZTO, GAZO, ZnO, NiO, SnO₂, Cu, Ni, Ti, Mo, In, Cr, Si, CuGa, ZnTe, CuNi 증착 재료:ITO, IWSO, IXO, ICO, IMO, ZTO, AZO, GAZO, NiO, Mo, IZRO, ZnO, SnO₂, Cu, In, Se 헤테로접합(HJT), 페로브스카이트, 백컨택트(BC), CdTe 박막 셀과 같은 신흥 태양전지 유형을 포함하는 광전지 기술의 빠른 발전은 고성능 박막 재료에 대한 요구를 점점 ...
2026-03-27
광학
주요 목표물:Si, SiB, SiO₂, Nb, Nb₂오xTi, TiOX,Al, Cr, Zr, Hf, Ta, Ge 증발 재료:MgF₂, Nb₂오₅알₂오₃타₂오₅, HfO₂티₃오₅, SiO₂/ AI₂오₃H4, YbF₃, SiO₂티오₂ZrO₂ 이러한 대상 재료는 다양한 광학적 구성 요소에 높은 균일성, 밀도 및 안정성을 제공하는 고급 광학 얇은 필름 퇴적에 필수적입니다.그들은 전문적인 응용 프로그램에서 중요한 역할을 합니다., 광학 반사 방지 코팅, 광학 통신 코팅 및 광학 유리 코팅을 포함한다. 1광학 반사 방지 코팅 고 순수성 스프터...
2026-03-27
스마트 터치 및 디스플레이
주요 목표물:시, Nb, Cu, AI, Mo, Ti, Ni, Ag, Yb, SiB, GXO, MoOX, Nb₂오x, MONb, AINd, CuNi 증발 재료:Ag, AI, Yb스마트 터치 스크린과 다양한 평면 화면 생산에서 스프터링 타겟은 투명한 전도성 필름 (TCF), 기능성 필름,그리고 인터페이스 계층이 재료의 품질은 디스플레이 성능, 터치 반응성 및 전체 장치 안정성에 직접 영향을 미칩니다.높은 균일성 스프터링 타겟은 낮은 저항의 퇴적을 보장합니다., 높은 투명성 필름으로 화면 밝기가 균일하고, 색상 재생이 정확하며, 촉각 민...
2026-03-27
하드 코팅 및 기능성 코팅
주요 목표물:시, Cr, Cu, AI, Ti, Nb, Zr, In, Sn, SS, C, Nb₂오xCrSi, CrAl, SiAI, TiAI, InSn, WTi, WC, WCr, TiB₂위 스프터링 표적은 고순도, 고성도, 고성도,고밀도 표적, 고강도로 특징인 퇴적 필름, 강한 접착력, 그리고 뛰어난 마모 및 경화 저항성, 또한 우수한 미적 마무리 제공. 그들은 널리 도구, 곰팡이, 기계 부품의 표면 처리,각종 장식용 금속 부품. 1단단한 코팅 우리의 스프터링 목표물에서 퇴적된 금속 또는 세라믹 필름은 우수한 경직성, 마모 저항성, 화...
2026-03-27
낮은 유리
주요 타겟 재료:AZO, ZTO, SiAI, SiZr, ZrOx, NiCr, SiAIZr, ZnSn, ZnAI, TiOX, Nb₂Ox,Ag, Nb, Cr 유리용 기능성 코팅은 높은 투명도, 높은 균일성, 내마모성 및 내식성을 갖춘 박막을 증착합니다. 이러한 코팅은 건축, 자동차 및 가전 제품 유리에 단열, 전도성 및 반사 방지와 같은 필수 기능을 제공하여 성능과 시장 가치를 크게 향상시킵니다. 1. 건축용 유리 스퍼터링 타겟에서 증착된 박막은 필수적인 단열, 열 차단 및 낮은 반사 기능을 제공하여 건물의 에너지 효율성을 크게 향상시...
2026-03-27
복합 수집기
주요 목표물:큐, 니크, 알, 큐 합금 복합 전류 수집기 제조에서 스프터링 타겟은 고성능 전도성 필름과 인터페이스 층을 형성하는 핵심 재료입니다.높은 균일성 목표 매장 밀도, 연속적인 필름은 전도성, 기계적 강도 및 수집기의 화학적 안정성을 향상시킵니다.이것은 배터리 및 에너지 저장 장치 내의 전자와 이온의 신뢰할 수있는 전도성을 보장합니다.. 핵심 역할 전류 수집기의 전도성 및 전자 전송 효율을 향상 기계적 강도 및 착용 저항을 향상시키고 인터페이스 결합 강도를 최적화합니다. 화학적 부식 저항성을 높여 장기간 안정적인 작동을 보장 ...
2026-03-27
희토류 영구 자석
주요 목표물:Tb, Dy, Tb 합금 필름 퇴적 표면 코팅 및 자석 재료의 성능과 안정성을 향상시키기 위해 인터페이스 수정에 사용됩니다. 고 순수 목표물은 균일하고 밀도가 높은 기능 필름을 퇴적 할 수 있습니다.자석의 경화 저항성 및 열 안정성 향상, 서비스 수명을 연장하고 고온 또는 열악한 환경 조건에서 안정적인 자기 성능을 보장합니다. 1.네오디미움-철-보론 (NdFeB) 영구 자석 그것은 주로 필름 퇴적, 표면 코팅 및 인터페이스 수정에 사용되는 자석의 성능과 안정성을 향상시키는 핵심 재료입니다. 고 순도 표적이 균일하게 퇴적 ...
2026-03-27
전기 변색
주요 목표물:ITO, Ni, W, V, Cu, NiO, WO, VO, WNi, MoNb, AINd 이 재료들은 고순도, 고일률성, 밀도, 그리고 안정성 있는 필름들을 정밀하게 제어된 광학적 특성을 가진 채취를 가능하게 한다.이 고성능 타겟은 반응 속도와 색상 균일성을 향상시킬뿐만 아니라 필름의 내구성 및 장기 안정성을 향상시킵니다., 소비자 전자제품 및 건축 창문 유리 등 다양한 애플리케이션에서 장치의 성능을 보장합니다. 1.소비자 전자제품 이 목표물은 스마트 폰, 태블릿 디스플레이 및 조절 가능한 빛 디스플레이와 같은 애플리케이션...
2026-03-27
RPD / 증발 물질
주요 타겟 재료:구리(Cu), 티타늄(Ti), 알루미늄(Al), RPD 재료, 이터븀(Yb), 니켈(Ni), 은(Ag), ITO, 산화 지르코늄(ZrO₂), H4이 재료들은 고순도, 고균일, 고밀도, 고안정 박막 증착이 가능하며, 우수한 광학적, 전기적, 기계적 특성을 달성합니다. 고성능 타겟은 박막 제조 시 재료의 일관성과 안정성을 보장하여 평판 디스플레이, 광학, 태양광, 반도체, 기능성 박막 및 기타 분야에 신뢰할 수 있는 재료 기반을 제공합니다.1. RPD 타겟 응용 분야 이 타겟들은 RPD 공정에서 고정밀 박막 증착에 사용...
2026-03-27
가루
주요 분말:유리 분말, 나노 물질, 은 분말, 고순도 세라믹 분말 우리의 분말 제품다양한 고성능 소재로 구성되어 있습니다. 특수 유리 분말, 나노산화물, 은 분말, 고순도 세라믹 분말 등이 포함됩니다.이 물질은 태양 에너지와 같은 다양한 분야에서 널리 사용됩니다., 의료, 화학, 금속공학, 건설자재, 항공우주 및 광학. 그들의 예외적인 순수성, 안정성 및 우수한 물리적/화학적 특성으로 알려져,이 분말은 현재 첨단 재료 연구에서 가장 역동적인 물질 중 일부를 나타냅니다., 미래 경제 및 기술 발전에 큰 영향을 미칠 수 있습니다....
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