실리콘 스프터링 타겟 (Si 스프터링 타겟)
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중국 구리 스퍼터링 타겟(Cu 스퍼터링 타겟)
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ITO(인듐 주석 산화물) 스퍼터링 타겟
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고순도 티타늄 스퍼터 타겟(Ti Sputter Target)
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고순도 산화알루미늄 스퍼터링 타겟(Al2O₃ Sputtering Target)
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산화아연 스퍼터링 타겟(ZnO Sputtering Target)
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산화티타늄 로터리 스퍼터링 타겟(Tiox Sputtering Target)
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인듐갈륨 산화아연 서퍼링 타겟(IGZO 서퍼링 타겟)
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니켈산화물 공급타겟(NiOx 공급타겟)
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인듐아연산화물 서퍼링 타겟(IZO 서퍼링 타겟)
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아연 주석 산화물 스퍼터링 타겟 세라믹 타겟(ZTO 스퍼터링 타겟) 상대 밀도 ≥98%
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고순도 흑연 스퍼터링 타겟(C 스퍼터링 타겟)
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은 스퍼터링 타겟 (Ag 스퍼터링 타겟)
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고순도 백금 스퍼터링 타겟(Pt 타겟)
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크롬 스퍼터링 타겟 (Cr 스퍼터링 타겟), 순도: 99.5%-99.95%
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니오브 스퍼터링 타겟(Nb 스퍼터링 타겟)
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이트륨 희토류 금속 스퍼터링 타겟(Yb 스퍼터링 타겟)
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금 스퍼터링 타겟 순도 99.99% (Au 스퍼터링 타겟)
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알루미늄 스퍼터링 타겟(Al 스퍼터링 타겟)
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자기 필름 및 광학 코팅용 고순도 디스프로슘(Dy) 스퍼터링 타겟
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고순도 테르븀 스퍼터링 타겟(Tb Sputtering Targets)
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高強度チタンターゲット材料 軽量 耐食性
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뛰어난 연성과 인성을 가진 Ni 증착 재료 니켈 타겟
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구리 증발 재료 고전도성 구리 잉곳 펠릿 덩어리
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마그네트론 스프터링 진공 증발을 위한 RPD ITO 목표물
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크리스탈 란탄 티타나트 라티오3 스프터링 증발 얇은 필름 재료
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과도기 금속 산화물 증발 물질 티타늄 펜토오кси드 Ti3O5
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광학 장치 반도체용 고순도 오산화 탄탈럼 Ta2O5
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박막 증착 스퍼터링 재료 인듐 블록
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정밀 물 채널 스프터링 표적 뒷판 접착력> 98%
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코팅 생산 라인 스프터링 타겟 결합 서비스 로터리 타겟 결합
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