Objetivo de pulverización de estaño y indio (en el objetivo de suministro)

El objetivo de pulverización de indio y estaño es un objetivo de aleación de pulverización fabricado con indio (In) y estaño (Sn) a través de procesos metalúrgicos. Se utiliza ampliamente en recubrimientos fotovoltaicos, de vidrio de baja radiación y de dispositivos móviles.

Ventajas principales del indio y estañol

Electrónica flexible Propiedades optoelectrónicas

Alta conductividad eléctrica: La película logra una baja resistividad de 10⁻⁴ Ω·cm, impulsada por la alta concentración de electrones libres y vacantes de oxígeno inducidas por el dopaje de estaño.Alta transparencia: La transmisión de luz visible supera el 85%, con una banda prohibida óptica (3,5–4,3 eV) mucho mayor que la energía de la luz visible, por lo tanto, casi no hay absorción.

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 Electrónica flexible La estructura cristalina cúbica proporciona alta dureza, lo que la hace adecuada para procesos de pulverización.

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 Electrónica flexible EstabilidadResistente a la oxidación y a la corrosión ácido-base, pero frágil a altas temperaturas o en entornos flexibles.

Aplicaciones principales del indio y estaño

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Electrónica flexible Electrodos transparentes: Se utilizan para capas conductoras en pantallas LCD y OLED, lo que representa el 70% del consumo mundial de indio.

Paneles táctiles: Con alta transparencia y conductividad sensible, se utiliza como capa de detección para pantallas táctiles capacitivas.

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Electrónica flexible Se utiliza como electrodos transparentes en pantallas táctiles para teléfonos inteligentes, tabletas, etc., para mejorar la sensibilidad táctil y la claridad de la pantalla, admitiendo diseños delgados.

Vidrio inteligente: Capas conductoras para vidrio electrocrómico para ajustar la transmisión de luz.

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Electrónica flexible Vidrio inteligente: Capas conductoras para vidrio electrocrómico para ajustar la transmisión de luz.