Soluciones
2026-03-26
Semiconductor
Materiales principales objetivo:Cu, Ti, W, SS, AI, Si, Ni, Mo, Cr, Ta, Ag, Au, Pt, Ir, Sc, AISC, NiFe, NiCr, NiCu, WTi, AICu, PZT, LNO, NiV Materiales de evaporación:Cu, Ni, Ti, W, AI, Mo, Cr, Ta, Ag, Au, Pt, Ir, Y Estos materiales objetivo son componentes críticos e indispensables en la fabricación ...
2026-03-27
Células solares fotovoltaicas
Materiales principales:AMTO, ICO, IXO, ITO, AZO, MZO, CTO, ZTO, GAZO, ZnO, NiO, SnO₂, Cu, Ni, Ti, Mo, In, Cr, Si, CuGa, ZnTe, CuNi Materiales de evaporación:ITO, IWSO, IXO, ICO, IMO, ZTO, AZO, GAZO, NiO, Mo, IZRO, ZnO, SnO₂, Cu, In, Se La rápida evolución de la tecnología fotovoltaica —que abarca ...
2026-03-27
Óptica
Materiales principales objetivo:Si, SiB, SiO₂, Nb, Nb₂¿ Qué?el número, Ti, TiOX,Al, Cr, Zr, Hf, Ta, Ge Materiales de evaporación:MgF₂, Nb₂¿ Qué?₅Al, ¿ qué haces?₂¿ Qué?₃- ¿ Qué?₂¿ Qué?₅, HfO₂¿Qué quieres decir?₃¿ Qué?₅, SiO₂- ¿Qué quieres decir?₂¿ Qué?₃, H4, YbF₃, SiO₂, TiO₂, ZrO₂ Estos materiales ...
2026-03-27
Pantalla y toque inteligente
Materiales principales objetivo:Si, Nb, Cu, AI, Mo, Ti, Ni, Ag, Yb, SiB, GXO, MoOX, Nb₂¿ Qué?el número, MoNb, AINd, CuNi Materiales de evaporación:Ag, AI, YbEn la producción de pantallas táctiles inteligentes y diversas pantallas planas, los objetivos de pulverización son materiales básicos para la ...
2026-03-27
Revestimiento duro y revestimiento funcional
Materiales principales del objetivo:Si, Cr, Cu, AI, Ti, Nb, Zr, In, Sn, SS, C, Nb₂Ox, CrSi, CrAl, SiAI,TiAI, InSn, WTi, WC, WCr, TiB₂ Los objetivos de pulverización catódica anteriores son materiales centrales para la preparación de películas funcionales y capas de mejora de superficies en exigentes ...
2026-03-27
Vaso bajo
Materiales principales objetivo:AZO, ZTO, SiAI, SiZr, ZrOel número, NiCr, SiAIZr, ZnSn, ZnAI, TiOX, Nb₂¿ Qué?el númeroAg, Nb, Cr Los recubrimientos funcionales para el vidrio depositan películas altamente transparentes, uniformes, resistentes al desgaste y a la corrosión.conductividad, y anti...
2026-03-27
Colector compuesto
Materiales principales objetivo:Cu, NiCr, Al, aleación de Cu En la preparación de colectores de corriente compuestos, los objetivos de pulverización son materiales clave para formar películas conductoras de alto rendimiento y capas de interfaz.objetivos de alta uniformidad densidad de depósito, pel...
2026-03-27
Permanente de Tierras Raras
Materiales Principales de Destino:Tb, Dy, aleación de Tb Se utiliza para la deposición de películas, recubrimiento de superficies y modificación de interfaces para mejorar el rendimiento y la estabilidad de los materiales magnéticos. Los objetivos de alta pureza pueden depositar películas funcionale...
2026-03-27
electrocromismo
Materiales Principales:ITO, Ni, W, V, Cu, NiO, WO, VO, WNi, MoNb, AINd Estos materiales permiten la deposición de películas de alta pureza, alta uniformidad, densas y estables con propiedades ópticas controladas con precisión. Estos objetivos de alto rendimiento no solo mejoran la velocidad de ...
2026-03-27
RPD / Material de evaporación
Materiales Principales de Destino:Cu, Ti, Al, Materiales RPD, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4 Estos materiales pueden depositar películas de alta pureza, altamente uniformes, densas y estables, logrando excelentes propiedades ópticas, eléctricas y mecánicas. Los objetivos de alto rendimiento garantizan la ...
2026-03-27
Polvo
Polvos principales:Polvo de vidrio, nanomateriales, polvo de plata, polvo cerámico de alta pureza Nuestros productos en polvoEl material utilizado para la fabricación de la bomba de aluminio es un material de alta calidad que contiene una amplia gama de materiales de alto rendimiento, incluyendo ...
2026-03-27
Pastas
Materiales principales objetivo:Ag, Al, Cu,y así sucesivamente La pasta electrónica es un material funcional especializado formulado utilizando polvos de metales u óxidos de alta pureza como componentes principales, combinados con precisión con portadores orgánicos y aditivos específicos.Tiene una ...
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