Destinación / Planificador / Objetivo de cobre rotativo para el recubrimiento de pulverización
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990,5% - 99,95% de pureza Titanio Sputter objetivo Resistencia a la corrosión Ti objetivo
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Objetivo de pulverización de óxido de aluminio Al2O3 de alta densidad de pureza y uniformidad
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Objetivos cerámicos de tellururo de zinc ZnTe para materiales de recubrimiento
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Objetivo de pulverización de óxido de zinc ZnO de película fina para el proceso PVD
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Óxido de titanio TiOx objetivos cerámicos de alta pureza para el campo de la optoelectrónica
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Objetivos cerámicos de óxido compuesto IGZO Objetivos de óxido de zinc de indio y galio
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Material objetivo de óxido de níquel NiOx para batería solar
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Material de objetivo de óxido de indio y zinc IZO para tecnología de visualización
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Objetivo de óxido de zinc y estaño Objetivos cerámicos ZTO Densidad relativa ≥ 98%
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Proceso de sinterización por prensado en caliente de gran pureza
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Diana de pulverización catódica de plata metálica con alta conductividad eléctrica y térmica
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Tamaño personalizable Objetivo de cromo Objetivo de pulverización de cromo rotativo / plano
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Fusión al vacío Al aluminio objetivo Tecnología de película delgada moderna
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Objetivo de pulverización de terbio Tb Metal de tierras raras Objetivos de pulverización
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RPD ITO Objetivo para la evaporación del vacío de pulverización por magnetrón
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