logo
İyi bir fiyat.  çevrimiçi

Ürün ayrıntıları

Created with Pixso. Evde Created with Pixso. Ürünler Created with Pixso.
Metal püskürtme hedefi
Created with Pixso. Hafnium Sputtering Hedefleri (Hf)
Ayrıntılı Bilgiler
Menşe yeri:
Çin
Sertifika:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Saflık:
%99,9 - %99,99
Yoğunluk:
13.31 g/cm³
İsim:
Hafniyum Hedefi (Hf)
Oluşturma işlemi:
Sıcak Presleme Sinterleme
Ürün Özellikleri:
Düz hedef, Dönen hedef
Uygulama Alanları:
Yarı İletken İmalatı, Optik Cihaz İmalatı. Nükleer Endüstri, Havacılık ve Yüksek Sıcaklık Koruması
Ambalaj bilgileri:
Vakumla kapatılmış ambalaj, saklama ve taşıma için kutuya paketlenmiştir
Yetenek temini:
istikrarlı tedarik
Vurgulamak:

Hafnium püskürtme hedefi

,

Hf püskürtme hedefi

,

Hafniyum Hf Hedefi

Ürün Tanımı

Hafnium püskürtme hedefleri, yüksek saflıkta hafnium metalinden (Hf) yapılmış, yüksek erime noktasına (~ 2227 °C), mükemmel korozyon direnci, iyi esnekliğe,ve olağanüstü termal nötron emişiYarım iletken üretiminde, optik kaplamalarda, nükleer endüstride ve yüksek sıcaklıklı alaşımlarda yaygın olarak kullanılırlar.Hafnium, elektronik ve enerji endüstrilerinde kritik bir stratejik malzemedir.Özellikle gelişmiş çip işlemleri ve nükleer reaktörler için.

Hafnium Sputtering hedefinin mükemmel özellikleri

 

Ben... Çok yüksek erime noktası ve termal kararlılık


Yüksek sıcaklıklı ortamlarda yapısal istikrarını korur, yüksek sıcaklıklı kaplama işlemleri ve aşırı koşullar için uygundur.

 

 

Ben... Mükemmel korozyon direnci


Çoğu asit, baz ve kimyasal ortamlara karşı yüksek dirençli, sert ortamlarda uzun süreli kullanımı sağlar.

 

 

Ben... Yüksek saflık ve üstün film performansı


Sputtered filmler tekdüze ve yoğuntur; hafnium bileşikleri (örneğin, HfO2) UV optik aralığında düşük emilim gösterir.Onları yarı iletkenler ve optik kaplamalar için ideal yüksek kırılma endeksi malzemeleri haline getirir.

 

 

Ben... Gelişmiş yarı iletken süreçlerinde kilit rol


Hafnium bileşikleri (örneğin, HfO2) ileri mantık cihazlarında ve birleştirmeyi iyileştirmek ve güç tüketimini azaltmak için hafniyum bileşikleri (örneğin, HfO2) yaygın olarak kullanılan yüksek k dilektrik malzemeleridir.

 

Hafnium püskürtme hedefinin uygulamalar

 

Ben... Yarım iletken üretimi


Hafnium püskürtme hedefleri, gelişmiş mantık cihazlarında, MOSFET'lerde ve DRAM belleklerinde yaygın olarak kullanılan HfO2 gibi yüksek k dielektrik filmler üretmek için gereklidir.Yüksek k özellikleri, cihaz sızıntı akımını etkili bir şekilde azaltır ve entegrasyon ve performansı artırır7nm ve daha gelişmiş işlemler için vazgeçilmez hale getiriyorlar.

 

 

Ben... Optik cihaz üretimi


Hafnium püskürtme hedefleri, lazer optik sistemlerinde, müdahale filtrelerinde, kızılötesi pencerelerde ve hassas lenslerde uygulanan optikte yüksek kırılma endeksi olan HfO2 filmleri üretmek için kullanılır.Bu filmler optik geçirgenliği ve yüksek sıcaklık dirençlerini arttırır, yüksek kaliteli optik sistemlerin sıkı kalite gereksinimlerini karşılıyor.

 

 

Ben... Nükleer Endüstri


Sputtered filmler hafniyum'un son derece yüksek nötron emici kesimi nedeniyle reaktör kontrol sistemlerinde ve koruyucu yapılarda kullanılabilir.Hafnium kaplamaları nükleer güvenlikte kritik bir rol oynar ve nükleer alanda yedeklenemeyen işlevsel malzemelerdir..

 

 

Ben... Havacılık ve Yüksek Sıcaklık Koruma


Hafnium püskürtme hedefleri, jet motorları, gaz türbini kanatları ve diğer yüksek sıcaklıklı bileşenler için yüksek sıcaklıkta oksidasyona dayanıklı kaplamalar oluşturmak için kullanılır.Yüksek erime noktası ve kimyasal istikrarları aşırı havacılık ortamlarında güvenilirliği sağlar, genel sistem ömrünü uzatıyor.