পিভিডি কোটিংয়ের জন্য টাংস্টেন স্পাটারিং টার্গেট (W)

টংস্টেন স্পাটারিং টার্গেটসঃ উচ্চ-কার্যকারিতা উপকরণ জন্য চূড়ান্ত পছন্দ

টংস্টেন স্পটটিং টার্গেট উপাদান, মূলত টংস্টেনের সমন্বয়ে গঠিত, এর অনন্য শারীরিক এবং রাসায়নিক বৈশিষ্ট্যগুলির কারণে অনেক উচ্চ প্রযুক্তির ক্ষেত্রে একটি অপরিহার্য ভূমিকা পালন করে।

টংস্টেন স্পটারিং লক্ষ্যগুলির অসামান্য বৈশিষ্ট্য

আমি উচ্চ বিশুদ্ধতা

উচ্চ বিশুদ্ধতা মৌলিক ধাতু লক্ষ্য উপাদান থেকে তৈরি, 99.9%-99.99% বিশুদ্ধতার সাথে, বাষ্পীভবন, লেপ, স্পটারিং এবং অন্যান্য অ্যাপ্লিকেশনগুলির জন্য উপযুক্ত।

 আমি উচ্চ ঘনত্ব

প্রায় 19.25g/cm3 এর ঘনত্বের সাথে, এই উচ্চ ঘনত্ব বহিষ্কৃত টংস্টেন পরমাণুগুলিকে উচ্চ গতির শক্তি দেয়, ঘন, দৃ strongly়ভাবে সংযুক্ত পাতলা ফিল্ম গঠন করে,যা ফিল্মের অভ্যন্তরীণ ত্রুটি হ্রাস করে.

আমি কম অক্সিজেন

হট প্রেসিং অক্সিজেনের পরিমাণ 20ppm এর নিচে, স্প্রে লেপ অক্সিজেনের পরিমাণ 2000ppm এর নিচে।

আমি দুর্দান্ত ক্ষয় প্রতিরোধের

টংস্টেন বিভিন্ন ধরনের অ্যাসিড, বেস এবং গলিত ধাতুগুলির বিরুদ্ধে উচ্চতর প্রতিরোধ ক্ষমতা প্রদর্শন করে।এই অন্তর্নিহিত রাসায়নিক inertness আক্রমণাত্মক রাসায়নিক পরিবেশে বা ক্ষয়কারী অগ্রদূত গ্যাস জড়িত জমাট প্রক্রিয়া সময় ব্যতিক্রমী স্থিতিশীলতা নিশ্চিত.

 টংস্টেন স্পটারিং টার্গেটের বিস্তৃত অ্যাপ্লিকেশন

আমি ফাংশনাল লেপ

টংস্টেন ফিল্মগুলি ভাল চকচকে এবং শক্তিশালী রাসায়নিক স্থিতিশীলতার সাথে রৌপ্য-সাদা এবং উচ্চ-শেষের আলংকারিক লেপ হিসাবে ব্যবহার করা যেতে পারে (যেমন ঘড়ি এবং চিকিত্সা ডিভাইসের কেসিংয়ের জন্য) ।তাদের পরিবাহিতা এবং অক্সাইডেশন প্রতিরোধের ফলে এগুলি ইলেক্ট্রোড পৃষ্ঠের লেপগুলির জন্য উপযুক্ত, যা ইলেক্ট্রোডের জীবনকাল এবং স্থিতিশীলতা বাড়ায়।

আমি এক্স-রে প্রযুক্তি

এর উচ্চ পারমাণবিক সংখ্যা (Z = 74), উচ্চ ঘনত্ব এবং উচ্চ গলনের পয়েন্টের কারণে, টংস্টেন স্পটারিং টার্গেট উপাদানটি এক্স-রে সরঞ্জামগুলিতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়। এক্স-রে টিউবগুলিতে, টংস্টেন স্পটারিং টার্গেট উপাদানটি এক্স-রে সরঞ্জামগুলিতে ব্যবহৃত হয়।উচ্চ গতির ইলেকট্রনগুলি টংস্টেন স্পটটিং টার্গেটকে আঘাত করে এক্স-রে তৈরি করে. টংস্টেন উচ্চ তাপমাত্রা সহ্য করতে পারে এবং দক্ষতার সাথে উচ্চ-শক্তির এক্স-রে উত্পাদন করতে পারে, উচ্চ চিত্রের স্পষ্টতা সরবরাহ করে, যা চিকিৎসা নির্ণয় এবং শিল্প অ ধ্বংসাত্মক পরীক্ষার জন্য উপযুক্ত.টংস্টেনের স্থিতিশীলতা এবং চমৎকার তাপ পরিবাহিতা এটিকে উচ্চ-কার্যকারিতা এক্স-রে উত্সগুলির জন্য একটি প্রয়োজনীয় উপাদান করে তোলে।

আমি সেমিকন্ডাক্টর শিল্প

অর্ধপরিবাহী উত্পাদনে, টংস্টেন স্পটারিং টার্গেট উপকরণগুলি সাধারণত ধাতব আন্তঃসংযুক্ত স্তরগুলি গঠনের জন্য শারীরিক বাষ্প জমাট বাঁধার (পিভিডি) প্রক্রিয়াগুলিতে ব্যবহৃত হয়।এর কম প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং ভাল পরিবাহিতা কারণে, টংস্টেন যোগাযোগ প্লাগ এবং স্থানীয় আন্তঃসংযোগ কাঠামো গঠনের জন্য অ্যালুমিনিয়াম প্রতিস্থাপন করতে পারে, চিপগুলির বৈদ্যুতিক দক্ষতা এবং নির্ভরযোগ্যতা উন্নত করে।টংস্টেনের চমৎকার জমাট বাঁধার বৈশিষ্ট্য এবং সিলিকনের সাথে ভাল আঠালো এটিকে উন্নত লজিক এবং মেমরি চিপ উত্পাদন একটি অপরিহার্য ধাতু করে তোলে.

আমি ফোটোভোলটাইক শিল্প

সোলার সেল উত্পাদন, টংস্টেন স্পটারিং টার্গেট উপাদান ব্যাক ইলেক্ট্রোড পাতলা ফিল্ম জমা বা কার্যকরী ধাতু ফিল্ম অংশ হিসাবে ব্যবহৃত হয়। বিশেষ করে,প্রোটন এক্সচেঞ্জ মেম্ব্রান ফুয়েল সেল (পিইএমএফসি), টংস্টেন বাইপোলার প্লেটগুলিতে বাধা স্তর হিসাবে ব্যবহৃত হয়, মলিবডেনম ছড়িয়ে পড়া রোধ করে এবং ডিভাইসের দীর্ঘমেয়াদী স্থিতিশীলতা উন্নত করে।উচ্চ তাপমাত্রা পরিবেশে টংস্টেন চমৎকার তাপ স্থিতিশীলতা বজায় রাখে, জটিল পরিবেশে ফোটোভোলটাইক মডিউলগুলির অপারেটিং নির্ভরযোগ্যতা এবং রূপান্তর দক্ষতা বৃদ্ধি।

 আমি এয়ারস্পেস এবং পারমাণবিক শিল্পের সুরক্ষা স্তর

মহাকাশযানের তাপ সুরক্ষা
টংস্টেনের ফিল্মগুলি রকেট ইঞ্জিনের ডোজ এবং মহাকাশযানের পুনরায় প্রবেশের উপাদানগুলিতে ব্যবহার করা হয় যাতে অত্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রা (হাজার হাজার ডিগ্রি সেলসিয়াস) এবং তাপীয় শক থেকে রক্ষা করা যায়,অভ্যন্তরীণ কাঠামো রক্ষা.

 আমি পারমাণবিক শিল্পের উপাদান:

টংস্টেন ফিল্ম, যা বিকিরণ, উচ্চ তাপমাত্রা এবং নিম্ন নিউট্রন শোষণ ক্রস-সেকশনের প্রতিরোধের জন্য পরিচিত, পারমাণবিক চুল্লি লক্ষ্যবস্তু, ঢালাই উপকরণ,অথবা ফিউশন ডিভাইসের প্রথম দেয়াল লেপ (উদাহরণস্বরূপ, টোকামাক্স), যেখানে তারা উচ্চ-শক্তির কণা বোমা এবং চরম তাপীয় অবস্থার সাথে সহ্য করে।