Detalles de los productos
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Objetivos de pulverización catódica de tungsteno (W) para recubrimiento PVD
| Nombre De La Marca: | APG |
| El Tiempo De Entrega: | 4-5 semanas |
| Condiciones De Pago: | T/T |
Blanco de la farfulla del tungsteno
,W objetivo de chisporroteo
,Objetivos de pulverización de tungsteno
Objetivos de pulverización de tungsteno: La elección definitiva para materiales de alto rendimiento
El material de los objetivos de pulverización de tungsteno, compuesto principalmente de tungsteno, desempeña un papel indispensable en muchos campos de alta tecnología debido a sus propiedades físicas y químicas únicas.
Propiedades destacadas de los objetivos de pulverización de tungsteno
l Alta pureza
Fabricado con material objetivo de metal elemental de alta pureza, con una pureza del 99,9 % al 99,99 %, adecuado para evaporación, recubrimiento, pulverización y otras aplicaciones.
l Alta densidad
Con una densidad de aproximadamente 19,25 g/cm³, esta alta densidad confiere a los átomos de tungsteno eyectados una alta energía cinética, formando películas delgadas densas y fuertemente unidas, lo que reduce los defectos internos en las películas.
l Bajo contenido de oxígeno
El contenido de oxígeno en el prensado en caliente es inferior a 20 ppm, el contenido de oxígeno en el recubrimiento por pulverización es inferior a 2000 ppm.
l Excelente resistencia a la corrosión
El tungsteno presenta una resistencia superior a una amplia gama de ácidos, bases y metales fundidos. Esta inercia química inherente garantiza una estabilidad excepcional durante los procesos de deposición que implican entornos químicos agresivos o gases precursores corrosivos.
Amplias aplicaciones de los objetivos de pulverización de tungsteno
l Recubrimientos funcionales
Las películas de tungsteno son de color blanco plateado con buen brillo y fuerte estabilidad química, y pueden utilizarse como recubrimientos decorativos de alta gama (por ejemplo, para carcasas de relojes y dispositivos médicos). Además, su conductividad y resistencia a la oxidación las hacen adecuadas para recubrimientos de superficies de electrodos, mejorando la vida útil y la estabilidad de los electrodos.
l Tecnología de rayos X
Debido a su alto número atómico (Z=74), alta densidad y alto punto de fusión, el material de los objetivos de pulverización de tungsteno se utiliza ampliamente en equipos de rayos X. En los tubos de rayos X, los electrones de alta velocidad inciden en el objetivo de pulverización de tungsteno para generar rayos X. El tungsteno puede soportar altas temperaturas y producir eficientemente rayos X de alta energía, proporcionando una alta claridad de imagen, lo que es adecuado para diagnósticos médicos y pruebas no destructivas industriales. La estabilidad y la excelente conductividad térmica del tungsteno lo convierten en un material esencial para fuentes de rayos X de alto rendimiento.
l Industria de semiconductores
En la fabricación de semiconductores, los materiales de los objetivos de pulverización de tungsteno se utilizan comúnmente en procesos de deposición física de vapor (PVD) para formar capas de interconexión metálica. Debido a su baja resistividad y buena conductividad, el tungsteno puede reemplazar al aluminio para formar tapones de contacto y estructuras de interconexión local, mejorando la eficiencia eléctrica y la fiabilidad de los chips. Las excelentes propiedades de deposición del tungsteno y su buena adhesión al silicio lo convierten en un metal insustituible en la fabricación de chips lógicos y de memoria avanzados.
l Industria fotovoltaica
En la fabricación de células solares, el material de los objetivos de pulverización de tungsteno se utiliza para depositar películas delgadas de electrodos traseros o como parte de películas metálicas funcionales. Específicamente, para las pilas de combustible de membrana de intercambio de protones (PEMFC), el tungsteno se utiliza como capa de barrera en las placas bipolares, evitando la difusión de molibdeno y mejorando la estabilidad a largo plazo del dispositivo. Además, el tungsteno mantiene una excelente estabilidad térmica en entornos de alta temperatura, mejorando la fiabilidad operativa y la eficiencia de conversión de los módulos fotovoltaicos en entornos complejos.
l Capas de protección para la industria aeroespacial y nuclear
Protección térmica de naves espaciales
Las películas de tungsteno se utilizan en las toberas de los motores de cohetes y en los componentes de reentrada de las naves espaciales para proteger contra temperaturas extremadamente altas (miles de grados Celsius) y choques térmicos, salvaguardando las estructuras internas.
l Componentes de la industria nuclear:
Las películas de tungsteno, conocidas por su resistencia a la radiación, altas temperaturas y baja sección transversal de absorción de neutrones, se utilizan en objetivos de reactores nucleares, materiales de blindaje o recubrimientos de la primera pared de dispositivos de fusión (por ejemplo, tokamaks), donde soportan el bombardeo de partículas de alta energía y condiciones térmicas extremas.
