पीवीडी कोटिंग के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य (W)

वुल्फ़्रेम स्पटरिंग लक्ष्यः उच्च प्रदर्शन सामग्री के लिए अंतिम विकल्प

वुल्फ़्स्टन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री, मुख्य रूप से वुल्फ़्स्टन से बनी होती है, अपने अद्वितीय भौतिक और रासायनिक गुणों के कारण कई उच्च तकनीक क्षेत्रों में एक अपरिहार्य भूमिका निभाती है।

वोल्फ्रेम स्पटरिंग लक्ष्यों के उत्कृष्ट गुण

मैं उच्च शुद्धता

उच्च शुद्धता तत्व धातु लक्ष्य सामग्री से बना है, 99.9%-99.99% की शुद्धता के साथ, वाष्पीकरण, कोटिंग, स्पटरिंग और अन्य अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त है।

 मैं उच्च घनत्व

लगभग 19.25 ग्राम/सेमी3 के घनत्व के साथ, यह बहुत उच्च घनत्व बाहर निकाले गए वोल्फ्रेम परमाणुओं को उच्च गतिज ऊर्जा देता है, घनी, दृढ़ता से बंधे पतली फिल्मों का गठन करता है,जो फिल्मों में आंतरिक दोषों को कम करते हैं.

मैं कम ऑक्सीजन सामग्री

गर्म प्रेसिंग ऑक्सीजन सामग्री 20ppm से कम है, स्प्रे कोटिंग ऑक्सीजन सामग्री 2000ppm से कम है।

मैं उत्कृष्ट जंग प्रतिरोध

टंगस्टन कई प्रकार के एसिड, बेस और पिघले हुए धातुओं के प्रति उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदर्शित करता है।यह अंतर्निहित रासायनिक निष्क्रियता आक्रामक रासायनिक वातावरण या संक्षारक पूर्ववर्ती गैसों को शामिल करने वाली जमाव प्रक्रियाओं के दौरान असाधारण स्थिरता सुनिश्चित करती है.

 वोल्गस्टन स्पटरिंग लक्ष्य के व्यापक अनुप्रयोग

मैं कार्यात्मक कोटिंग्स

वोल्गस्टेन फिल्म अच्छी चमक और मजबूत रासायनिक स्थिरता के साथ चांदी-सफेद होती है और उच्च अंत सजावटी कोटिंग्स (जैसे घड़ियों और चिकित्सा उपकरणों के लिए) के रूप में इस्तेमाल की जा सकती है। इसके अतिरिक्त,उनकी चालकता और ऑक्सीकरण प्रतिरोध उन्हें इलेक्ट्रोड सतह कोटिंग के लिए उपयुक्त बनाते हैं, विद्युतों के जीवनकाल और स्थिरता में वृद्धि।

मैं एक्स-रे प्रौद्योगिकी

इसकी उच्च परमाणु संख्या (Z=74), उच्च घनत्व और उच्च पिघलने बिंदु के कारण, टंगस्टन स्पटरिंग टारगेट सामग्री का व्यापक रूप से एक्स-रे उपकरण में उपयोग किया जाता है। एक्स-रे ट्यूबों में, टंगस्टन स्पटरिंग टारगेट सामग्री का उपयोग एक्स-रे उपकरण में किया जाता है।एक्स-रे उत्पन्न करने के लिए टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य पर उच्च गति वाले इलेक्ट्रॉनों का हमलावोल्गस्टन उच्च तापमान का सामना कर सकता है और कुशलता से उच्च ऊर्जा वाली एक्स-रे का उत्पादन कर सकता है, जो उच्च इमेजिंग स्पष्टता प्रदान करता है, जो चिकित्सा निदान और औद्योगिक गैर-विनाशकारी परीक्षण के लिए उपयुक्त है.टंगस्टन की स्थिरता और उत्कृष्ट ताप चालकता इसे उच्च-प्रदर्शन वाले एक्स-रे स्रोतों के लिए एक आवश्यक सामग्री बनाती है।

मैं अर्धचालक उद्योग

अर्धचालक विनिर्माण में, टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का उपयोग आमतौर पर धातु इंटरकनेक्ट परतों को बनाने के लिए भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) प्रक्रियाओं में किया जाता है।इसकी कम प्रतिरोधकता और अच्छी चालकता के कारण, वोल्फ्रेम संपर्क प्लग और स्थानीय इंटरकनेक्ट संरचनाओं के गठन के लिए एल्यूमीनियम की जगह ले सकता है, जिससे चिप्स की विद्युत दक्षता और विश्वसनीयता में सुधार होता है।वोल्गस्टन के उत्कृष्ट जमाव गुण और सिलिकॉन के लिए अच्छा आसंजन इसे उन्नत तर्क और स्मृति चिप निर्माण में एक अपरिवर्तनीय धातु बनाते हैं.

मैं फोटोवोल्टिक उद्योग

सौर सेल विनिर्माण में, टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का उपयोग इलेक्ट्रोड पतली फिल्मों को वापस जमा करने या कार्यात्मक धातु फिल्मों के हिस्से के रूप में किया जाता है। विशेष रूप से,प्रोटॉन विनिमय झिल्ली ईंधन कोशिकाओं (PEMFC) के लिएइसके अलावा, टंगस्टन का उपयोग द्विध्रुवीय प्लेटों पर एक बाधा परत के रूप में किया जाता है, जिससे मोलिब्डेनम फैलाव को रोका जाता है और डिवाइस की दीर्घकालिक स्थिरता में सुधार होता है।वोल्फ्रेम उच्च तापमान वातावरण में उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता बनाए रखता है, जटिल वातावरण में फोटोवोल्टिक मॉड्यूल की परिचालन विश्वसनीयता और रूपांतरण दक्षता में वृद्धि।

 मैं एयरोस्पेस और परमाणु उद्योग की सुरक्षा परतें

अंतरिक्ष यान की थर्मल सुरक्षा
टंगस्टन फिल्मों का उपयोग रॉकेट इंजन नोजल और अंतरिक्ष यान के पुनः प्रवेश घटकों पर अत्यधिक उच्च तापमान (हजारों डिग्री सेल्सियस) और थर्मल सदमे से बचाने के लिए किया जाता है,आंतरिक संरचनाओं की सुरक्षा करना.

 मैं परमाणु उद्योग के घटक:

वोल्गस्टेन की फिल्म, जो कि विकिरण, उच्च तापमान और निम्न न्यूट्रॉन अवशोषण क्रॉस-सेक्शन के प्रतिरोध के लिए जानी जाती है, का उपयोग परमाणु रिएक्टर लक्ष्य, परिरक्षण सामग्री,या संलयन उपकरणों के पहले दीवार कोटिंग्स (ईउदाहरण के लिए, टोकामाक्स), जहां वे उच्च ऊर्जा वाले कणों के बमबारी और चरम थर्मल परिस्थितियों का सामना करते हैं।