উচ্চ বিশুদ্ধতা গ্রাফাইট স্পটারিং টার্গেট হট প্রেসিং সিন্টারিং প্রক্রিয়া

উচ্চ বিশুদ্ধ গ্রাফাইট থেকে তৈরি, গ্রাফাইট লক্ষ্যমাত্রা ব্যতিক্রমী তাপ স্থিতিশীলতা প্রদর্শন, উচ্চ তাপ প্রতিরোধের, এবং একটি কম তাপ প্রসারণ সহগ.এই লক্ষ্যমাত্রাগুলি সেমিকন্ডাক্টরগুলির মতো সেক্টরে উচ্চ-কার্যকারিতা কার্বন ফিল্ম জমা দেওয়ার জন্য গুরুত্বপূর্ণ, ফোটোভোলটাইক, এবং উন্নত ব্যাটারি উপাদান, যেখানে উচ্চ তাপমাত্রা প্রক্রিয়াকরণের সময় উপাদান অখণ্ডতা বজায় রাখা সর্বাধিক গুরুত্বপূর্ণ।

গ্রাফাইট টার্গেটের উল্লেখযোগ্য বৈশিষ্ট্য

আমি উচ্চ তাপীয় স্থিতিশীলতা

এটি উচ্চ-ক্ষমতা, উচ্চ-তাপমাত্রা স্পটারিং প্রক্রিয়াগুলিতে স্থিতিশীল কর্মক্ষমতা বজায় রাখে, অভিন্ন ফিল্ম জমাট নিশ্চিত করে।

আমি নিম্ন তাপীয় প্রসারণ সহগ

এটি তাপমাত্রা পরিবর্তনের অধীনে আকারগতভাবে স্থিতিশীল, জমাট বাঁধার চাপ হ্রাস করে এবং ফিল্মের ঘনত্ব এবং আঠালোতা বাড়ায়।

আমি চমৎকার বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা

গ্রাফাইটের লক্ষ্যগুলি ভাল বৈদ্যুতিক পরিবাহিতা রয়েছে, যা তাদের বৈদ্যুতিন ডিভাইস, কার্যকরী ফিল্ম এবং পরিবাহী স্তর প্রস্তুত করার জন্য উপযুক্ত করে তোলে।

গ্রাফাইট টার্গেটের বিস্তৃত ব্যবহার

আমি সেমিকন্ডাক্টর উৎপাদন

গ্রাফাইট লক্ষ্যমাত্রা পরিবাহী ফিল্ম, কার্বন বাধা স্তর এবং আন্তঃসংযোগ স্তর প্রস্তুত করার জন্য ব্যবহৃত হয়, যা ডিভাইসগুলির উচ্চ কর্মক্ষমতা এবং স্থিতিশীলতা নিশ্চিত করে।

আমি অপটিক্যাল উপাদান উৎপাদন

কার্বন ফিল্ম, অ্যান্টি-রিফ্লেকশন লেপ এবং ইনফ্রারেড শোষণ ফিল্ম প্রস্তুত করার জন্য ব্যবহৃত, অপটিক্যাল উপাদান, লেজার ডিভাইস এবং ইনফ্রারেড উইন্ডোতে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

আমি ফোটোভোলটাইক শিল্প

এটি ফোটোভোলটাইক সেল ব্যাক ইলেক্ট্রোড, জ্বালানী সেল কার্বন স্তর এবং সুপার ক্যাপাসিটর পরিবাহী স্তরগুলিতে ব্যবহৃত হয়, যা শক্তি রূপান্তর দক্ষতা এবং ডিভাইসের আয়ু বাড়ায়।

আমি এয়ারস্পেস

গ্রাফাইট লক্ষ্য দ্বারা জমা ফিল্ম উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরক্ষামূলক লেপ হিসাবে কাজ করতে পারে, তাপ প্রতিরোধের এবং পরিধান প্রতিরোধের উন্নতি।