Quy trình thiêu kết ép nóng cho mục tiêu phún xạ graphite độ tinh khiết cao

Được thiết kế từ graphite tinh khiết cao, các mục tiêu graphite thể hiện sự ổn định nhiệt đặc biệt, khả năng chống nhiệt vượt trội và hệ số mở rộng nhiệt thấp.Những mục tiêu này rất quan trọng đối với việc lắng đọng các tấm carbon hiệu suất cao trong các lĩnh vực như bán dẫn, quang điện và các vật liệu pin tiên tiến, nơi duy trì tính toàn vẹn của vật liệu trong quá trình xử lý nhiệt độ cao là điều quan trọng nhất.

Các đặc điểm nổi bật của Graphite Target

Tôi. Độ ổn định nhiệt cao

Nó duy trì hiệu suất ổn định trong các quy trình phun nhiệt độ cao, đảm bảo lắng đọng phim đồng nhất.

Tôi. Tỷ lệ mở rộng nhiệt thấp

Nó ổn định về kích thước dưới sự thay đổi nhiệt độ, làm giảm căng thẳng lắng đọng và tăng mật độ và độ dính của phim.

Tôi. Khả năng dẫn điện tuyệt vời

Các mục tiêu graphite có độ dẫn điện tốt, làm cho chúng phù hợp với việc chuẩn bị các thiết bị điện tử, phim chức năng và lớp dẫn điện.

Ứng dụng rộng rãi của mục tiêu graphite

Tôi. Sản xuất bán dẫn

Các mục tiêu graphite được sử dụng để chuẩn bị các tấm điện dẫn, lớp rào cản carbon và lớp kết nối, đảm bảo hiệu suất và độ ổn định cao của các thiết bị.

Tôi. Sản xuất thành phần quang học

Được sử dụng để chuẩn bị phim carbon, lớp phủ chống phản xạ và phim hấp thụ hồng ngoại, được áp dụng rộng rãi trong các thành phần quang học, thiết bị laser và cửa sổ hồng ngoại.

Tôi. Ngành công nghiệp quang điện

Được sử dụng trong điện cực hậu pin quang điện, lớp carbon pin nhiên liệu và lớp dẫn điện siêu tụ, tăng hiệu quả chuyển đổi năng lượng và tuổi thọ thiết bị.

Tôi. Hàng không vũ trụ

Phim được lắng đọng bởi các mục tiêu graphite có thể phục vụ như lớp phủ bảo vệ nhiệt độ cao, cải thiện khả năng chống nhiệt và chống mòn.