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उत्पादों का विवरण

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धातु स्पटरिंग लक्ष्य
Created with Pixso. उच्च शुद्धता ग्राफाइट स्पटरिंग लक्ष्य गर्म प्रेसिंग सिंटरिंग प्रक्रिया
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
पवित्रता:
99.99%
सापेक्ष घनत्व:
≥99%
नाम:
ग्रेफाइट लक्ष्य (सी)
गठन प्रक्रिया:
हॉट प्रेसिंग सिंटरिंग
उत्पाद विशिष्टताएँ:
सपाट लक्ष्य, रोटरी लक्ष्य
अनुप्रयोग फ़ील्ड:
सेमीकंडक्टर विनिर्माण, ऑप्टिकल डिवाइस घटक विनिर्माण, फोटोवोल्टिक उद्योग, एयरोस्पेस
पैकेजिंग विवरण:
वैक्यूम-सीलबंद पैकेजिंग, भंडारण और परिवहन के लिए केस-पैक
आपूर्ति की क्षमता:
स्थिर आपूर्ति
प्रमुखता देना:

उच्च शुद्धता ग्राफाइट स्पटरिंग लक्ष्य

,

IAFT16949 ग्रेफाइट स्पटरिंग लक्ष्य

उत्पाद का वर्णन

उच्च-शुद्धता ग्रेफाइट से निर्मित, ग्रेफाइट लक्ष्य असाधारण तापीय स्थिरता, बेहतर गर्मी प्रतिरोध और कम तापीय विस्तार गुणांक प्रदर्शित करते हैं। ये लक्ष्य अर्धचालक, फोटोवोल्टिक्स और उन्नत बैटरी सामग्री जैसे क्षेत्रों में उच्च-प्रदर्शन कार्बन फिल्मों को जमा करने के लिए महत्वपूर्ण हैं, जहां उच्च-तापमान प्रसंस्करण के दौरान सामग्री की अखंडता बनाए रखना सर्वोपरि है।

ग्रेफाइट लक्ष्य की उत्कृष्ट विशेषताएं

 

l उच्च तापीय स्थिरता

 

यह उच्च-शक्ति, उच्च-तापमान स्पटरिंग प्रक्रियाओं में स्थिर प्रदर्शन बनाए रखता है, जिससे समान फिल्म जमाव सुनिश्चित होता है।

 

 

l कम तापीय विस्तार गुणांक

 

यह तापमान परिवर्तन के तहत आयामी रूप से स्थिर है, जमाव तनाव को कम करता है और फिल्म के घनत्व और आसंजन को बढ़ाता है।

 

 

l उत्कृष्ट विद्युत चालकता


ग्रेफाइट लक्ष्यों में अच्छी विद्युत चालकता होती है, जो उन्हें इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, कार्यात्मक फिल्मों और प्रवाहकीय परतों की तैयारी के लिए उपयुक्त बनाती है।

 

ग्रेफाइट लक्ष्य के व्यापक अनुप्रयोग

 

l अर्धचालक निर्माण


ग्रेफाइट लक्ष्यों का उपयोग प्रवाहकीय फिल्मों, कार्बन अवरोध परतों और इंटरकनेक्ट परतों को तैयार करने के लिए किया जाता है, जिससे उपकरणों का उच्च प्रदर्शन और स्थिरता सुनिश्चित होती है।

 

 

l ऑप्टिकल घटक निर्माण


कार्बन फिल्मों, एंटी-रिफ्लेक्शन कोटिंग्स और इन्फ्रारेड अवशोषण फिल्मों को तैयार करने के लिए उपयोग किया जाता है, जो ऑप्टिकल घटकों, लेजर उपकरणों और इन्फ्रारेड खिड़कियों में व्यापक रूप से लागू होते हैं।

 

 

l फोटोवोल्टिक उद्योग


फोटोवोल्टिक सेल बैक इलेक्ट्रोड, ईंधन सेल कार्बन परतों और सुपरकैपेसिटर प्रवाहकीय परतों में उपयोग किया जाता है, जिससे ऊर्जा रूपांतरण दक्षता और उपकरण जीवनकाल में वृद्धि होती है।

 

 

l एयरोस्पेस


ग्रेफाइट लक्ष्यों द्वारा जमा की गई फिल्में उच्च-तापमान सुरक्षात्मक कोटिंग्स के रूप में काम कर सकती हैं, जिससे गर्मी प्रतिरोध और घर्षण प्रतिरोध में सुधार होता है।