การกระจายกราฟิตความบริสุทธิ์สูงเป้าหมาย การดันร้อน กระบวนการซินเตอร์

ผลิตจากกราไฟต์ความบริสุทธิ์สูง เป้ากราไฟต์แสดงความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม ทนความร้อนได้ดีเยี่ยม และมีค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ เป้าเหล่านี้มีความสำคัญอย่างยิ่งต่อการเคลือบฟิล์มคาร์บอนประสิทธิภาพสูงในภาคส่วนต่างๆ เช่น เซมิคอนดักเตอร์ โฟโตโวลตาอิก และวัสดุแบตเตอรี่ขั้นสูง ซึ่งการรักษาความสมบูรณ์ของวัสดุในระหว่างกระบวนการที่อุณหภูมิสูงเป็นสิ่งสำคัญยิ่ง

คุณสมบัติที่โดดเด่นของเป้ากราไฟต์

l ความเสถียรทางความร้อนสูง

รักษาประสิทธิภาพที่เสถียรในกระบวนการสปัตเตอริงกำลังสูง อุณหภูมิสูง ทำให้การเคลือบฟิล์มสม่ำเสมอ

l ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนต่ำ

มีความเสถียรทางมิติภายใต้การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ ลดความเค้นในการเคลือบ และเพิ่มความหนาแน่นและการยึดเกาะของฟิล์ม

l การนำไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม

เป้ากราไฟต์มีการนำไฟฟ้าที่ดี ทำให้เหมาะสำหรับการเตรียมอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ ฟิล์มฟังก์ชัน และชั้นนำไฟฟ้า

การใช้งานที่หลากหลายของเป้ากราไฟต์

l การผลิตเซมิคอนดักเตอร์

เป้ากราไฟต์ใช้สำหรับการเตรียมฟิล์มนำไฟฟ้า ชั้นกั้นคาร์บอน และชั้นเชื่อมต่อ เพื่อให้มั่นใจถึงประสิทธิภาพและความเสถียรสูงของอุปกรณ์

l การผลิตชิ้นส่วนออปติคัล

ใช้สำหรับการเตรียมฟิล์มคาร์บอน การเคลือบป้องกันแสงสะท้อน และฟิล์มดูดซับอินฟราเรด ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในชิ้นส่วนออปติคัล อุปกรณ์เลเซอร์ และหน้าต่างอินฟราเรด

l อุตสาหกรรมโฟโตโวลตาอิก

ใช้ในขั้วไฟฟ้าด้านหลังของเซลล์แสงอาทิตย์ ชั้นคาร์บอนของเซลล์เชื้อเพลิง และชั้นนำไฟฟ้าของซุปเปอร์คาปาซิเตอร์ เพื่อเพิ่มประสิทธิภาพการแปลงพลังงานและอายุการใช้งานของอุปกรณ์

l อวกาศ

ฟิล์มที่เคลือบด้วยเป้ากราไฟต์สามารถใช้เป็นสารเคลือบป้องกันอุณหภูมิสูง เพิ่มความทนทานต่อความร้อนและการสึกหรอ