इंडियम टिन लक्ष्य InSn मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य अनुकूलन योग्य अनुपात

इंडियम टिन लक्ष्य एक मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य है जो इंडियम (इन) और टिन (एसएन) से धातु विज्ञान प्रक्रियाओं के माध्यम से बनाया जाता है। इसका उपयोग व्यापक रूप से फोटोवोल्टिक, कम विकिरण वाले ग्लास और मोबाइल डिवाइस कोटिंग में किया जाता है।

इंडियम टिन लक्ष्य के मुख्य लाभ

मैं ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक गुण

उच्च विद्युत चालकताः फिल्म 10−4 Ω·cm की कम प्रतिरोधकता प्राप्त करती है, जो कि टिन डोपिंग द्वारा प्रेरित मुक्त इलेक्ट्रॉनों और ऑक्सीजन रिक्तियों की उच्च एकाग्रता के कारण होती है.

 उच्च पारदर्शिता: दृश्य प्रकाश प्रसार 85% से अधिक है, जिसमें दृश्य प्रकाश की ऊर्जा से बहुत बड़ा ऑप्टिकल बैंडगैप (3.5~4.3 eV) है, इसलिए, लगभग कोई अवशोषण नहीं है।

 मैं यांत्रिक शक्ति

घन क्रिस्टल संरचना उच्च कठोरता प्रदान करती है, जिससे यह स्पटरिंग प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त है।

 मैं ‌स्थिरता

ऑक्सीकरण और एसिड-बेस संक्षारण के प्रतिरोधी, लेकिन उच्च तापमान या लचीले वातावरण में भंगुर।

इंडियम टिन लक्ष्य के मुख्य अनुप्रयोग

मैं डिस्प्ले पैनल

पारदर्शी इलेक्ट्रोड: एलसीडी और ओएलईडी स्क्रीन में प्रवाहकीय परतों के लिए उपयोग किया जाता है, जो वैश्विक इंडियम खपत का 70% है।

टच पैनल: उच्च पारदर्शिता और संवेदनशील चालकता के साथ इसका उपयोग संवेदी टचस्क्रीन के लिए सेंसर परत के रूप में किया जाता है।

मैं ऊर्जा क्षेत्र

स्मार्टफ़ोन, टैबलेट आदि के टचस्क्रीन में पारदर्शी इलेक्ट्रोड के रूप में इस्तेमाल किया जाता है, ताकि स्पर्श संवेदनशीलता और डिस्प्ले स्पष्टता को बढ़ाया जा सके, पतले डिजाइनों का समर्थन किया जा सके।

स्मार्ट ग्लास: प्रकाश संचरण को समायोजित करने के लिए इलेक्ट्रोक्रोमिक ग्लास के लिए प्रवाहकीय परतें।

मैं लचीला इलेक्ट्रॉनिक्स

स्मार्ट ग्लास: प्रकाश संचरण को समायोजित करने के लिए इलेक्ट्रोक्रोमिक ग्लास के लिए प्रवाहकीय परतें।