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उत्पादों का विवरण

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वाष्पीकरण सामग्री
Created with Pixso. वैक्यूम कोटिंग के लिए रिंग के आकार का क्वार्ट्ज SiO2 स्पटरिंग लक्ष्य
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
पवित्रता:
99.99%
अपवर्तनांक:
1.46(500nm)
पारदर्शिता रेंज:
200-9000nm
नाम:
क्वार्ट्ज की अंगूठी
गठन प्रक्रिया:
गर्म पिघलने, मोल्डिंग की प्रक्रिया
अनुप्रयोग फ़ील्ड:
ऑप्टिकल डिवाइस निर्माण, सेमीकंडक्टर निर्माण, फोटोवोल्टिक उद्योग, डिस्प्ले डिवाइस, सजावटी कोटिंग
पैकेजिंग विवरण:
वैक्यूम-सीलबंद पैकेजिंग, भंडारण और परिवहन के लिए केस-पैक
आपूर्ति की क्षमता:
स्थिर आपूर्ति
प्रमुखता देना:

क्वार्ट्ज SiO2 स्पटरिंग लक्ष्य

,

रिंग के आकार का SiO2 स्पटरिंग लक्ष्य

,

वैक्यूम कोटिंग SiO2 स्पटरिंग लक्ष्य

उत्पाद का वर्णन

क्वार्ट्ज रिंग सिलिकॉन डाइऑक्साइड (SiO2) से बनी एक रिंग के आकार की स्पटरिंग टारगेट है, जिसका उपयोग ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स, सेमीकंडक्टर और ऑप्टिकल फिल्मों के वैक्यूम कोटिंग प्रक्रियाओं में व्यापक रूप से किया जाता है। क्वार्ट्ज रिंग में उच्च प्रकाश संचरण, कम तापीय विस्तार गुणांक और उत्कृष्ट रासायनिक स्थिरता होती है, जिसका अपवर्तक सूचकांक 1.46 (500nm पर) और 200-9000nm से पारदर्शिता होती है। वे उच्च तापमान और वैक्यूम स्थितियों में संरचनात्मक स्थिरता बनाए रखते हैं, जिससे वे ऑप्टिकल कोटिंग्स, प्रवाहकीय फिल्मों और सुरक्षात्मक फिल्मों के लिए महत्वपूर्ण सामग्री बन जाते हैं।

क्वार्ट्ज रिंग की उत्कृष्ट विशेषताएं

 

l उच्च शुद्धता सामग्री


उच्च-शुद्धता क्वार्ट्ज का उपयोग दोषों को कम करने के लिए महत्वपूर्ण है, जो बेहतर पतली-फिल्म गुणवत्ता और अखंडता सुनिश्चित करता है।

 

 

l उत्कृष्ट ऑप्टिकल गुण


इसमें पराबैंगनी, दृश्य और अवरक्त तरंग दैर्ध्य में उच्च संचरण होता है, जो इसे ऑप्टिकल कोटिंग अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाता है।

 

 

l मजबूत तापीय स्थिरता


यह उच्च तापमान के प्रतिरोधी है और कम तापीय विस्तार गुणांक के कारण तापीय तनाव से आसानी से नहीं टूटता है, जो इसे उच्च-ऊर्जा स्पटरिंग वातावरण के लिए एक आदर्श विकल्प बनाता है।

 


l रासायनिक निष्क्रियता


इसमें एसिड, क्षार और अधिकांश रसायनों के प्रति उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध होता है, जो कोटिंग प्रक्रिया के दौरान शुद्धता सुनिश्चित करता है।

 

 क्वार्ट्ज रिंग के व्यापक अनुप्रयोग

 

l ऑप्टिकल डिवाइस निर्माण

ऑप्टिकल लेंस, फिल्टर और लेपित कांच के लिए सुरक्षात्मक या एंटी-रिफ्लेक्टिव परतों के जमाव में उपयोग किया जाता है।

 

 

l सेमीकंडक्टर निर्माण

 

उच्च शुद्धता आवश्यकताओं को पूरा करते हुए, इन्सुलेटिंग परतों की तैयारी के लिए सेमीकंडक्टर प्रक्रियाओं में उपयोग किया जाता है।

 

 

l फोटोवोल्टिक उद्योग

 

प्रकाश संचरण और मौसम प्रतिरोध को बढ़ाने के लिए फोटोवोल्टिक सेल मॉड्यूल में एक कार्यात्मक परत सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है।

 

 

l डिस्प्ले डिवाइस


फ्लैट-पैनल डिस्प्ले और टच पैनल के लिए सुरक्षात्मक फिल्मों और इन्सुलेटिंग फिल्मों के जमाव में उपयोग किया जाता है।

 

 

l सजावटी कोटिंग्स


पहनने के लिए प्रतिरोधी, संक्षारण प्रतिरोधी और उच्च-संचरण सजावटी फिल्मों को तैयार करने के लिए उपयोग किया जाता है, जो सौंदर्यशास्त्र में सुधार करता है और सेवा जीवन को बढ़ाता है।