진공 코팅을 위한 고리 모양의 쿼츠 SiO2 스프터링 타겟

석영 링은 주로 고순도 이산화규소(SiO2)로 만들어진 링 형태의 스퍼터링 타겟으로, 광전자, 반도체 및 광학 필름의 진공 코팅 공정에 널리 사용됩니다. 석영 링은 높은 광 투과율, 낮은 열팽창 계수, 뛰어난 화학적 안정성을 특징으로 하며, 굴절률은 1.46(500nm 기준)이고 200-9000nm 범위에서 투명합니다. 고온 및 진공 조건에서도 구조적 안정성을 유지하여 광학 코팅, 전도성 필름 및 보호 필름의 중요한 재료입니다.

석영 링의 뛰어난 특징

l 고순도 재료

고순도 석영을 사용하면 결함을 줄이고 우수한 박막 품질과 무결성을 보장하는 데 중요합니다.

l 뛰어난 광학적 특성

자외선, 가시광선 및 적외선 파장에서 높은 투과율을 가지므로 광학 코팅 응용 분야에 적합합니다.

l 강력한 열 안정성

고온에 강하고 낮은 열팽창 계수로 인한 열 응력으로 쉽게 균열되지 않아 고에너지 스퍼터링 환경에 이상적인 선택입니다.

l 화학적 불활성

산, 알칼리 및 대부분의 화학 물질에 대한 뛰어난 내식성을 가지므로 코팅 공정 중 순도를 보장합니다.

 석영 링의 광범위한 응용 분야

l 광학 장치 제조

광학 렌즈, 필터 및 코팅 유리의 보호 또는 반사 방지 층 증착에 사용됩니다.

l 반도체 제조

반도체 공정에서 절연층 준비에 사용되며 높은 순도 요구 사항을 충족합니다.

l 태양광 산업

광 투과율 및 내후성을 향상시키기 위해 태양광 셀 모듈의 기능성 층 재료로 사용됩니다.

l 디스플레이 장치

평판 디스플레이 및 터치 패널의 보호 필름 및 절연 필름 증착에 사용됩니다.

l 장식 코팅

내마모성, 내식성 및 높은 투과율의 장식 필름을 준비하여 미적 감각을 향상시키고 수명을 연장하는 데 사용됩니다.