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商品の詳細

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金属スパッタリングターゲット
Created with Pixso. ハードコーティング・装飾コーティング用金属タンタルスパッタリングターゲット
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
パラメータ:
密度
価値:
16.65 g/cm3
名前:
タンタルターゲット(Ta)
形成プロセス:
溶けること
製品仕様:
平面ターゲット、回転ターゲット
応用分野:
半導体製造、光学デバイス製造、ハードコーティングおよび装飾コーティング、電子部品
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:

金属タンタルスパッタリングターゲット

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Taタンタルスパッタリングターゲット

製品の説明

タンタルターゲットは、高純度のタンタル（Ta）金属で作られたスパッタリングターゲットです。高純度、均一性、高密度を特徴とするタンタルターゲットは、半導体製造、精密光学コーティング、および高度な電子デバイス製造に不可欠です。タンタルは高真空下で安定して動作し、酸化に耐性があるため、機能性膜の作製に広く使用されています。

タンタルターゲットの優れた特徴

 

高純度：通常、純度は99.99%以上であり、膜の安定した電気的および光学的性能を保証します。

 

 

均一性：薄膜成膜プロセス中の材料の均一な分布を保証するために、タンタルターゲットは均一な微細構造を持つ必要があります。

 

 

高密度：成膜プロセス中の安定性を確保するために、均一な密度が重要です。

 

タンタルターゲットの幅広い用途

 

l 半導体製造


タンタルターゲットは、チップ製造における金属配線に一般的に使用されます。銅配線プロセスでは拡散バリア層として機能し、デバイスの信頼性を向上させます。

 

 

l 光学デバイス製造

 

高純度タンタルターゲットは、精密光学レンズおよび高度な反射防止コーティングに不可欠な高屈折率膜の成膜に利用されます。これらの膜は、高性能光学アセンブリおよび民生用電子機器における光管理とスループットを最適化します。

 

 

l 硬質コーティングおよび装飾コーティング


耐摩耗性および耐食性のある膜の作製に使用され、工具、金型、および民生用電子機器の装飾に広く使用されています。

 

 

l 電子部品


タンタル薄膜は陽極材料として使用され、コンデンサ製造における静電容量性能と安定性を向上させます。