logo
Buen precio  en línea

Detalles de los productos

Created with Pixso. Hogar Created with Pixso. Productos Created with Pixso.
Materiales de evaporación
Created with Pixso. Pentoxido de tántalo de alta pureza Ta2O5 para aparatos ópticos semiconductores
Información detallada
Lugar de origen:
Porcelana
Certificación:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Índice de refracción:
2-2,25 (500 nm)
Banda transparente:
350-9000nm
Nombre:
Pentóxido de tantalio (Ta₂O₅)
Proceso de formación:
Metalurgia de polvos, sinterización por prensado en caliente
Especificaciones del producto:
Partículas de evaporación
Campos de aplicación:
Fabricación de dispositivos ópticos, industria fotovoltaica, fabricación de semiconductores.
Detalles de empaquetado:
Envasado al vacío, embalado en cajas para almacenamiento y transporte.
Capacidad de la fuente:
Fuente estable
Resaltar:

Pentoxido de tántalo de alta pureza

,

Pentoxido de tántalo Ta2O5

,

Semiconductor de pentóxido de tántalo

Descripción de producto

El pentóxido de tántalo (Ta2O5) es un importante óxido inorgánico funcional, caracterizado por una alta constante dieléctrica, un alto índice de refracción y una excelente estabilidad química.Es un aislante a temperatura ambiente, con un intervalo de banda de aproximadamente 4,0 ≈ 4,5 eV, y puede formar películas finas de alta calidad a través de procesos como la evaporación por vacío o el pulverización por magnetrones.baja absorción, y mantiene propiedades físicas y químicas estables a lo largo del tiempo, lo que lo convierte en un material clave en la fabricación de películas finas ópticas y electrónicas.

Características sobresalientes del pentóxido de tántalo (Ta2O5)

 

Yo... Alto rendimiento dieléctrico


Tiene una constante dieléctrica (20 a 25) significativamente mayor que la de la sílice, lo que lo hace adecuado como material dieléctrico para condensadores y películas de alta k.

 

Yo... Excelentes propiedades ópticas


Exhibe un índice de refracción de aproximadamente 2,0 ∼ 2,25 (a 500 nm), que es altamente sintonizable a través de la optimización del proceso de deposición.esta característica lo hace ideal para recubrimientos de interferencia de alto rendimiento y sistemas ópticos avanzados.

 

 

Yo... Estabilidad térmica y química


Tiene una resistencia térmica y química excepcional, manteniendo una estabilidad de película delgada superior incluso cuando se somete a temperaturas extremas y entornos corrosivos.

 

 

Yo... Baja pérdida de absorción

Las bajas propiedades de absorción y dispersión de las películas conducen a una alta eficiencia y una larga vida útil para los dispositivos ópticos.

 

 

Yo... Alta pureza


Las materias primas de alta pureza aseguran una morfología sin defectos durante la deposición.Esta optimización es crítica para lograr la estricta uniformidad de rendimiento y la estabilidad del dispositivo requeridos para las arquitecturas electrónicas de próxima generación.

 

Amplias aplicaciones del pentóxido de tántalo (Ta2O5)

 

Yo... Fabricación de aparatos ópticos


Se utiliza en la preparación de recubrimientos antirreflejos (recubrimientos AR), filtros ópticos, capas de alto índice de refracción y películas de interferencia multicapa.

 

 Desempeña un papel importante en sistemas ópticos avanzados al proporcionar un alto índice de refracción y una excelente transparencia, lo que lo convierte en un material crítico para filtros de interferencia de alto rendimiento,revestimientos antirreflectores, y guías de ondas ópticas en lentes, proyectores y sistemas láser.

 

 

Yo... Industria fotovoltaica


Se utiliza en recubrimientos antirreflejos para células solares para mejorar la absorción de la luz y la eficiencia de conversión de energía.


Mejora la estabilidad y la resistencia a las condiciones climáticas de los módulos solares de película delgada.

 

 

Yo... Fabricación de semiconductores


Es ampliamente utilizado en capas dieléctricas para DRAM, memoria flash y condensadores.

 

 

Yo... Como película dieléctrica de alta k en la industria de semiconductores, cumple con las demandas de miniaturización de chips y alto rendimiento.