logo
ราคาดี  ออนไลน์

รายละเอียดสินค้า

Created with Pixso. บ้าน Created with Pixso. สินค้า Created with Pixso.
เป้าหมายกระจายโลหะ
Created with Pixso. เป้าหมายการกระจายอะลูมิเนียมเนโอดีมียม (AlNd Sputtering Target)
ข้อมูลรายละเอียด
สถานที่กำเนิด:
จีน
ได้รับการรับรอง:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
ความบริสุทธิ์:
99.99%
สัดส่วน:
อัตราส่วนที่ปรับแต่งได้
ชื่อ:
เป้าหมายอะลูมิเนียมนีโอไดเมียม (AINd)
กระบวนการขึ้นรูป:
ละลาย
ข้อมูลจำเพาะของผลิตภัณฑ์:
เป้าหมายระนาบ เป้าหมายที่หมุน เป้าหมายที่มีรูปร่างผิดปกติ
ฟิลด์แอปพลิเคชัน:
การผลิตเซมิคอนดักเตอร์ แผงแสดงผล เทคโนโลยีจอสัมผัส อุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์
รายละเอียดการบรรจุ:
บรรจุภัณฑ์ปิดผนึกสูญญากาศ บรรจุกล่องสำหรับจัดเก็บและขนส่ง
สามารถในการผลิต:
อุปทานที่มั่นคง
เน้น:

เป้าหมายสปัตเตอร์อลูมิเนียมนีโอดิเมียม

,

เป้าหมายการกระจาย

,

เป้าหมายอัลลูมิเนียมเนโอดีมิਅਮ

คําอธิบายสินค้า

เป้าหมายอลูมิเนียมนีโอไดเมียมสปัตเตอร์เป้าหมายเป็นเป้าหมายโลหะผสมที่ประกอบด้วยอลูมิเนียม (Al) และนีโอดิเมียม (Nd) ในสัดส่วนเฉพาะซึ่งมักใช้ในกระบวนการเคลือบสปัตเตอร์ การเพิ่มนีโอไดเมียมธาตุหายากลงในเมทริกซ์อะลูมิเนียม ช่วยปรับปรุงโครงสร้างและประสิทธิภาพของฟิล์มอะลูมิเนียมได้อย่างมาก ส่งผลให้ชั้นฟิล์มมีความหนาแน่นมากขึ้น มีเสถียรภาพมากขึ้น ทนต่อการกัดกร่อน และทนต่ออุณหภูมิสูง โดยทั่วไปเป้าหมายนี้จะมีความบริสุทธิ์สูง ความหนาแน่นสูง และมีค่าการนำไฟฟ้าที่ดีเยี่ยม ทำให้เป็นวัสดุฟิล์มบางที่ใช้งานได้สำคัญในสาขาอิเล็กทรอนิกส์ ออปโตอิเล็กทรอนิกส์ และพลังงานหมุนเวียน

ข้อได้เปรียบหลักของเป้าหมายสปัตเตอร์อลูมิเนียมนีโอไดเมียม

 

ล ปรับปรุงความเสถียรของฟิล์มบาง


การเติมนีโอไดเมียมช่วยขัดเกลาเม็ดฟิล์มอะลูมิเนียม ลดความเครียดและรูเข็ม เพิ่มความหนาแน่นและการยึดเกาะของฟิล์ม และทำให้ฟิล์มมีโอกาสเสียหายน้อยลงเมื่อใช้งานเป็นเวลานาน

 

 

ล เพิ่มความต้านทานการกัดกร่อนและความร้อน


เมื่อเปรียบเทียบกับชิ้นงานอะลูมิเนียมบริสุทธิ์ ฟิล์มที่เตรียมด้วยเป้าหมาย AlNd จะแสดงประสิทธิภาพที่เสถียรกว่าในสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงและมีความชื้นสูง พร้อมความต้านทานต่อการเกิดออกซิเดชันที่ดีขึ้น

 

 

ล การนำไฟฟ้าและคุณสมบัติทางแสงที่ดีเยี่ยม


ในขณะที่ยังคงรักษาค่าการนำไฟฟ้าที่ดีไว้ ก็ยังสามารถปรับปรุงการสะท้อนแสงและการส่งผ่านของชั้นฟิล์มได้ ซึ่งตอบสนองความต้องการของจอแสดงผลและอุปกรณ์ออปติคอล

 


การใช้งานหลักของเป้าหมายสปัตเตอร์อลูมิเนียมนีโอดิเมียม

 

ล การผลิตเซมิคอนดักเตอร์


เป้าหมายสปัตเตอร์อะลูมิเนียมนีโอไดเมียมใช้ในชิปเซมิคอนดักเตอร์และอุปกรณ์ไมโครอิเล็กทรอนิกส์สำหรับการเชื่อมต่อระหว่างโลหะ อิเล็กโทรด ชั้นกั้น หรือชั้นป้องกัน การเติมนีโอไดเมียมช่วยปรับปรุงสถานะการตกผลึกและความเครียดของฟิล์มอะลูมิเนียม ทำให้มีความหนาแน่นและมีเสถียรภาพมากขึ้น ช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการนำไฟฟ้าและอายุการใช้งานของอุปกรณ์ได้อย่างมาก และตรงตามข้อกำหนดของวงจรรวมประสิทธิภาพสูง

 

 

ล แผงแสดงผล


ในการผลิต LCD, OLED, Micro-LED และแผงจอแสดงผลอื่นๆ เป้าหมาย AlNd จะถูกนำมาใช้ในการเตรียมอิเล็กโทรด แบ็คเพลน และชั้นสะท้อนแสง คุณสมบัติการนำไฟฟ้าและการสะท้อนแสงที่ยอดเยี่ยมช่วยเพิ่มความสม่ำเสมอของความสว่างของจอแสดงผล ลดการใช้พลังงาน และปรับปรุงความทนทานและความน่าเชื่อถือของแผงจอแสดงผล

 

 

ล เทคโนโลยีหน้าจอสัมผัส

 

เป้าหมาย AlNd สามารถนำไปใช้ในการเคลือบตามหน้าที่สำหรับเลนส์สายตา ฟิลเตอร์ ส่วนประกอบเลเซอร์ ฯลฯ เพื่อควบคุมคุณสมบัติการสะท้อน การส่งผ่าน และการดูดซับ ชั้นฟิล์มทนต่อการกัดกร่อน พร้อมการยึดเกาะที่แข็งแกร่ง และสามารถรักษาประสิทธิภาพที่มั่นคงในสภาพแวดล้อมที่มีความชื้นสูงและอุณหภูมิสูง ตรงตามข้อกำหนดที่เข้มงวดของอุปกรณ์ออพติคอลระดับไฮเอนด์

 

 

ล อุตสาหกรรมไฟฟ้าโซลาร์เซลล์

 

เป้าหมาย AlNd มักใช้เป็นอิเล็กโทรดหรือวัสดุชั้นสะท้อนแสงในการผลิตผลึกซิลิคอนหรือเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง โดยปรับปรุงค่าการนำไฟฟ้า การสะท้อนกลับ และความเสถียรของชั้นฟิล์ม ซึ่งจะช่วยเพิ่มประสิทธิภาพการแปลงไฟฟ้าโซลาร์เซลล์และความน่าเชื่อถือในระยะยาวของเซลล์แสงอาทิตย์