logo
Giá tốt.  trực tuyến

Chi tiết sản phẩm

Created with Pixso. Nhà Created with Pixso. Các sản phẩm Created with Pixso.
Mục tiêu Phun Kim loại
Created with Pixso. Mục tiêu phún xạ Nhôm Neodymium (Mục tiêu phún xạ AlNd)
Thông tin chi tiết
Nguồn gốc:
Trung Quốc
Chứng nhận:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
độ tinh khiết:
99,99%
cân đối:
Tỷ lệ tùy chỉnh
tên:
Mục tiêu nhôm Neodymium (AINd)
Quá trình hình thành:
nóng chảy
Thông số sản phẩm:
Mục tiêu phẳng, mục tiêu quay, mục tiêu có hình dạng không đều
Trường ứng dụng:
Sản xuất chất bán dẫn. Tấm hiển thị, Công nghệ màn hình cảm ứng. Công nghiệp quang điện
chi tiết đóng gói:
Đóng gói hút chân không, đóng thùng để bảo quản và vận chuyển
Khả năng cung cấp:
nguồn cung ổn định
Làm nổi bật:

mục tiêu phún xạ nhôm neodymium

,

Mục tiêu phún xạ AlNd

,

Mục tiêu Nhôm Neodymium

Mô tả sản phẩm

Aluminium Neodymium Sputtering Target Target là một mục tiêu hợp kim bao gồm nhôm (Al) và neodymium (Nd) theo tỷ lệ cụ thể, thường được sử dụng trong các quy trình lớp phủ phun.Bằng cách thêm nguyên tố đất hiếm neodymium vào ma trận nhôm, nó cải thiện đáng kể cấu trúc và hiệu suất của phim nhôm, dẫn đến một lớp phim dày đặc hơn, ổn định hơn, chống ăn mòn và chống nhiệt độ cao.Mục tiêu này thường có độ tinh khiết cao, mật độ cao và độ dẫn xuất sắc, làm cho nó trở thành vật liệu phim mỏng chức năng quan trọng trong lĩnh vực điện tử, quang điện tử và năng lượng tái tạo.

Ưu điểm chính của mục tiêu phun neodymium nhôm

 

Tôi. Tăng độ ổn định của phim mỏng


Việc thêm neodymium tinh chế các hạt phim nhôm, giảm căng thẳng và lỗ chân, tăng mật độ và độ dính của phim và làm cho phim ít dễ bị hỏng hơn khi sử dụng kéo dài.

 

 

Tôi. Khả năng chống ăn mòn và nhiệt cao hơn


So với các mục tiêu nhôm tinh khiết, các bộ phim được chuẩn bị với các mục tiêu AlNd cho thấy hiệu suất ổn định hơn trong môi trường nhiệt độ cao và độ ẩm cao, với khả năng chống oxy hóa cao hơn.

 

 

Tôi. Khả năng dẫn điện tuyệt vời và tính chất quang học


Trong khi duy trì độ dẫn tốt, nó cũng có thể cải thiện độ phản xạ và truyền của lớp phim, đáp ứng nhu cầu của thiết bị hiển thị và thiết bị quang học.

 


Ứng dụng chính của mục tiêu phun neodymium nhôm

 

Tôi. Sản xuất bán dẫn


Các mục tiêu phun neodymium nhôm được sử dụng trong chip bán dẫn và thiết bị vi điện tử cho các kết nối liên kết kim loại, điện cực, lớp rào cản hoặc lớp bảo vệ.Thêm neodymium cải thiện trạng thái tinh thể và căng của phim nhôm, làm cho nó dày đặc hơn và ổn định hơn, cải thiện đáng kể độ dẫn điện và tuổi thọ của thiết bị và đáp ứng các yêu cầu của mạch tích hợp hiệu suất cao.

 

 

Tôi. Bảng hiển thị


Trong sản xuất màn hình LCD, OLED, Micro-LED và các bảng hiển thị khác, các mục tiêu AlNd được sử dụng để chuẩn bị điện cực, nền và lớp phản xạ.Tính dẫn xuất sắc và tính phản xạ quang học của chúng giúp tăng sự đồng nhất của độ sáng màn hình, giảm tiêu thụ năng lượng và cải thiện độ bền và độ tin cậy của bảng hiển thị.

 

 

Tôi. Công nghệ cảm ứng

 

Các mục tiêu AlNd có thể được áp dụng trong lớp phủ chức năng cho ống kính quang học, bộ lọc, thành phần laser, vv, để kiểm soát tính phản xạ, truyền và hấp thụ.Các lớp phim chống ăn mòn, với độ bám chặt mạnh, và có thể duy trì hiệu suất ổn định trong môi trường độ ẩm cao và nhiệt độ cao, đáp ứng các yêu cầu nghiêm ngặt của các thiết bị quang học cao cấp.

 

 

Tôi. Ngành công nghiệp quang điện

 

Các mục tiêu AlNd thường được sử dụng làm điện cực hoặc vật liệu lớp phản xạ trong sản xuất các tế bào mặt trời silic tinh thể hoặc màng mỏng.và sự ổn định của lớp phim, do đó tăng hiệu quả chuyển đổi quang điện và độ tin cậy lâu dài của pin mặt trời.