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商品の詳細

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金属スパッタリングターゲット
Created with Pixso. アルミニウムネオジムスパッタリングターゲット (AlNdスパッタリングターゲット)
詳細情報
起源の場所:
中国
証明:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
純度:
99.99%
比例:
カスタマイズ可能な比率
名前:
アルミニウムネオジムターゲット(AINd)
形成プロセス:
溶けること
製品仕様:
平面ターゲット、回転ターゲット、不規則な形状のターゲット
応用分野:
半導体製造。ディスプレイ パネル、タッチスクリーン技術。太陽光発電産業
パッケージの詳細:
真空密封包装、保管および輸送用にケース詰め
供給の能力:
安定した供給
ハイライト:

アルミニウムネオジムスパッタリングターゲット

,

AlNdスパッタリングターゲット

,

アルミネオジミウム標的

製品の説明

アルミネオジミウムスプッターターゲットは,アルミ (Al) とネオジミウム (Nd) の特定の比率で構成される合金ターゲットであり,通常スプッターコーティングプロセスで使用される.アルミマトリックスに稀土元素ネオジウムを加えることでアルミフィルムの構造と性能を大幅に改善し,より密度が高く,安定し,腐食耐性があり,高温耐性のあるフィルム層になります.この標的は通常高純度です電子機器,光電子機器,再生可能エネルギー分野における重要な機能性薄膜材料となっています.

アルミニアム・ネオジミウムスプッターターゲットの主要な利点

 

わかった 薄膜 の 安定 性 を 向上 さ せる


ネオジミウムを加えるとアルミニウムフィルム粒子が精製され,ストレスとピンホールが減少し,フィルムの密度と粘着性が向上し,長時間の使用でフィルムが故障する可能性が低下します.

 

 

わかった 腐食 と 熱 に 耐える 性能 が 向上 し た


純アルミウムターゲットと比較して,AlNdターゲットで製成されたフィルムは高温および高湿度環境でより安定した性能を示し,酸化抵抗性が向上します.

 

 

わかった 優良 な 導電 性 と 光学 特性


良質な伝導性を維持しながらも,フィルム層の反射性と伝達性を向上させ,ディスプレイや光学装置のニーズを満たすことができます.

 


アルミネオジミウムスプッターターゲットの主要用途

 

わかった 半導体製造


アルミニウムネオジウムスプッターターゲットは,金属のインターコネクト,電極,バリア層,または保護層のための半導体チップおよびマイクロ電子装置で使用されます.ネオジウムを加えることで,アルミフィルムの結晶化とストレス状態が改善されます.装置の伝導性と使用寿命を大幅に向上させ,高性能集成回路の要件を満たす.

 

 

わかった ディスプレイパネル


LCD,OLED,Micro-LED,その他のディスプレイパネルの製造では,AlNdターゲットは電極,バックプレーン,反射層を準備するために使用されます.優れた導電性と光学反射特性により,ディスプレイの明るさの均一化が向上する電力消費を削減し,ディスプレイパネルの耐久性と信頼性を向上させる.

 

 

わかった タッチスクリーン技術

 

AlNdターゲットは,光学レンズ,フィルター,レーザーコンポーネントなどのための機能コーティングに適用され,反射,伝達,吸収特性を制御することができます.フィルム層は腐食に耐える高湿度や高温環境で安定した性能を維持し,高級光学装置の厳しい要件を満たす.

 

 

わかった フォトウオルタキック産業

 

AlNd ターゲットは,通常,結晶性シリコンや薄膜太陽電池の製造において,電極または反射層材料として使用されます.フィルム層の安定性太陽電池の光伏変換効率と長期的信頼性を向上させる.