Tấm CuNi Hợp kim chống ăn mòn và chống mài mòn

Mục tiêu hợp kim đồng-niken là các mục tiêu hợp kim được làm từ đồng và niken có độ tinh khiết cao, được xử lý thông qua các bước nấu chảy, cán, gia công chính xác và các bước khác trong môi trường chân không hoặc khí bảo vệ. Bằng cách kiểm soát cẩn thận thành phần hợp kim, hàm lượng tạp chất và cấu trúc vi mô, nó giữ được độ dẫn điện và nhiệt tuyệt vời của đồng đồng thời tích hợp độ bền cao và khả năng chống ăn mòn của niken, làm cho nó trở thành vật liệu mục tiêu chức năng được sử dụng phổ biến trong nhiều ngành công nghiệp.

Các ưu điểm chính của mục tiêu đồng-niken

l Độ dẫn điện và nhiệt tuyệt vời

Đồng có độ tinh khiết cao mang lại điện trở suất thấp và độ dẫn nhiệt cao cho mục tiêu, đảm bảo các màng lắng đọng duy trì độ dẫn điện ổn định và tản nhiệt trong điều kiện tần số cao và công suất cao, làm cho nó lý tưởng cho các thiết bị điện và đế lớn.

l Khả năng chống ăn mòn và mài mòn mạnh mẽ

Niken tăng cường khả năng chống oxy hóa và ăn mòn của mục tiêu và màng, đặc biệt là trong điều kiện độ ẩm cao. Nó tạo thành một lớp thụ động hóa dày đặc giúp kéo dài đáng kể tuổi thọ hoạt động của cả màng và thiết bị.

l Lớp màng dày đặc và độ bám dính cao

Các màng phún xạ có bề mặt nhẵn, hạt mịn, độ dày đồng nhất và độ bám dính tuyệt vời, giúp cải thiện năng suất và độ ổn định của sản phẩm hoàn chỉnh.

l Đặc tính cơ học tuyệt vời

Thông thường, mục tiêu đồng-niken có độ cứng và độ bền cao, duy trì sự ổn định và độ bền trong quá trình phún xạ, giảm biến dạng và hư hỏng do phún xạ, đảm bảo quá trình phún xạ diễn ra suôn sẻ.

 Các ứng dụng chính của mục tiêu đồng-niken

l  Sản xuất bán dẫn

Các mục tiêu hợp kim đồng-niken thường được sử dụng để lắng đọng các lớp kim loại quan trọng như lớp kết nối và điện cực tiếp xúc trong quá trình sản xuất chip. Thông qua quá trình phún xạ từ tính hoặc PVD, một màng mỏng dày đặc và có độ dẫn điện cao được hình thành trên bề mặt wafer, đảm bảo kết nối điện hiệu quả và ổn định giữa các mạch để đáp ứng các yêu cầu về độ tin cậy và hiệu suất của các quy trình tiên tiến.

l Ngành công nghiệp màn hình

Các mục tiêu đồng-niken là cần thiết để chế tạo các lớp transistor màng mỏng (TFT) và điện cực trong màn hình LCD và OLED. Quá trình lắng đọng đồng nhất của chúng tạo điều kiện cho các màng có độ bám dính cao, điện trở thấp giúp cải thiện đáng kể tốc độ phản hồi, độ đồng đều độ sáng và chất lượng hình ảnh tổng thể của bảng điều khiển.

l Ngành công nghiệp quang điện

Các mục tiêu đồng-niken được sử dụng để lắng đọng các điện cực hiệu suất cao và các lớp chắn cho các tế bào năng lượng mặt trời silicon tinh thể và màng mỏng. Các màng phún xạ này cung cấp sự kết hợp độc đáo giữa độ dẫn điện cao và khả năng chống ăn mòn vượt trội, trực tiếp nâng cao hiệu suất chuyển đổi năng lượng (PCE). Bằng cách ổn định các tiếp điểm điện giao diện, các lớp này đảm bảo độ ổn định hoạt động lâu dài và kéo dài đáng kể tuổi thọ của các mô-đun quang điện.

l Sản xuất thiết bị quang học

Các mục tiêu đồng-niken được sử dụng để lắng đọng các lớp phủ có độ chính xác cao trên ống kính và bộ lọc, mang lại khả năng kiểm soát phổ đặc biệt. Bằng cách điều chỉnh độ dày màng và các thông số lắng đọng, các nhà sản xuất có thể tinh chỉnh chính xác các mức phản xạ, truyền qua và hấp thụ. Mức độ chính xác kỹ thuật này là cần thiết cho các hệ thống quang học cao cấp, bao gồm kính thiên văn, kính hiển vi và cơ sở hạ tầng viễn thông tiên tiến.