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चीनी तांबा स्पटरिंग लक्ष्य(Cu स्पटरिंग लक्ष्य)
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क्रोमियम स्पटरिंग लक्ष्य (Cr स्पटरिंग लक्ष्य), शुद्धता: 99.5%-99.95%
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