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[rotary target bonding ]
Übereinstimmung7
ProdukteBeschichtungs-Produktionslinie Sputtern Zielbindungsdienst Drehzielbindung
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Chinesische Kupfer-Sputtertargets (Cu-Sputtertargets)
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Chrom-Sputtertarget (Cr-Sputtertarget), Reinheit: 99,5 % - 99,95 %
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Wolfram-Sputtertargets (W) für PVD-Beschichtung
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Indium-Zinn-Oxid (ITO)-Sputtertarget
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Hochreines Titan-Sputtertarget (Ti-Sputtertarget)
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Präzisionswasserkanalsputtern Zielstützplatten Bindungsabhängigkeit > 98%
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