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Anpassbarer Größe Chrom-Ziel Dreh- / Flächen-Cr-Sputter-Ziel

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Spezialisierung / Planer / Rotary Cu Kupfer Ziel für Sputtering Beschichtung

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Hochdichte W-Wolfram-Target für Metallunterstützung

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990,5% - 99,95% Reinheit Titan Sputter Ziel Korrosionsbeständigkeit Ti Ziel

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