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उच्च शुद्धता स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए सीआई लक्ष्य
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SiAI धातु स्पटरिंग लक्ष्य सिलिकॉन एल्यूमीनियम लक्ष्य रासायनिक स्थिरता
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SiC सिलिकॉन कार्बाइड स्पटरिंग लक्ष्य उच्च तापमान संक्षारण प्रतिरोध
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कम्पोजिट ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य IGZO इंडियम गैलियम जिंक ऑक्साइड लक्ष्य
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अनुकूलन योग्य अनुपात धातु स्पटरिंग लक्ष्य निकेल वैनेडियम NiV मिश्र धातु लक्ष्य
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वैक्यूम पिघलने एल्यूमीनियम लक्ष्य आधुनिक पतली फिल्म प्रौद्योगिकी
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जिंक टिन ऑक्साइड लक्ष्य ZTO सिरेमिक लक्ष्य सापेक्ष घनत्व ≥98%
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धातु समर्थन लक्ष्य के लिए उच्च घनत्व डब्ल्यू वोल्फ्रेम लक्ष्य
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उत्कृष्ट विद्युत चालकता वाली Zn जिंक स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री
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ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के लिए एल्यूमीनियम नियोडियम एआईएनडी लक्ष्य
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CuNi कॉपर निकल मिश्र धातु लक्ष्य
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धातु निओबियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च घनत्व कम प्रतिरोध एनबी लक्ष्य
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मो मेटल स्पटरिंग टारगेट मोलिब्डेनम स्पटरिंग टारगेट
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उच्च शुद्धता घनत्व एकरूपता Al2O3 एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य
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99.5% - 99.95% शुद्धता टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य संक्षारण प्रतिरोध Ti लक्ष्य
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