Bahan Target Utama:Si, SiB, SiO₂, Nb, Nb₂Ox, Ti, TiOX, Al, Cr, Zr, Hf, Ta, Ge

Bahan Evaporasi:MgF₂, Nb₂O₅, Al₂O₃, Ta₂O₅, HfO₂,Ti₃O₅, SiO₂/AI₂O₃, H4, YbF₃, SiO₂, TiO₂, ZrO₂

Bahan target ini sangat penting untuk deposisi film tipis optik canggih, memberikan keseragaman, kepadatan, dan stabilitas yang tinggi di berbagai komponen optik. Bahan-bahan ini memainkan peran penting dalam aplikasi khusus, termasuk lapisan anti-refleksi optik, lapisan komunikasi optik, dan lapisan kaca optik.

1. Lapisan Anti-refleksi Optik

Film tipis yang dideposisikan menggunakan target sputtering dengan kemurnian tinggi secara efektif meminimalkan pantulan permukaan dan memaksimalkan transmisi cahaya. Diterapkan secara luas pada lensa, kamera, layar, dan kaca fotovoltaik, bahan-bahan ini secara signifikan meningkatkan kualitas gambar dan mengoptimalkan pemanfaatan energi optik.

2. Lapisan Komunikasi Optik

Target sputtering mendeposisikan film dengan kehilangan rendah dan stabilitas tinggi, menjadikannya ideal untuk komponen komunikasi optik kritis seperti serat optik, pandu gelombang, dan filter. Hal ini meningkatkan efisiensi transmisi sinyal dan meningkatkan keandalan sistem untuk memenuhi tuntutan ketat jaringan komunikasi berkecepatan tinggi dan berkapasitas tinggi.

3. Lapisan Kaca Optik

Target sputtering digunakan untuk mendeposisikan lapisan anti-refleksi canggih, tahan gores, dan filter optik pada kaca optik. Lapisan ini tidak hanya meningkatkan kinerja optik inti dan daya tahan kaca tetapi juga memberikan fungsionalitas tambahan seperti perlindungan UV, pengurangan pantulan, dan ketahanan korosi, melayani berbagai aplikasi dalam penelitian, bidang medis, dan elektronik konsumen.