Hauptzielmaterialien:Si, SiB, SiO₂, Nb, Nb₂Ox, Ti, TiOX, Al, Cr, Zr, Hf, Ta, Ge

Verdampfungsmaterialien:MgF₂, Nb₂O₅, Al₂O₃, Ta₂O₅, HfO₂,Ti₃O₅, SiO₂/AI₂O₃, H4, YbF₃, SiO₂, TiO₂, ZrO₂

Diese Zielmaterialien sind unerlässlich für die fortschrittliche Abscheidung optischer Dünnschichten und liefern hohe Gleichmäßigkeit, Dichte und Stabilität über eine Vielzahl von optischen Komponenten. Sie spielen eine entscheidende Rolle in spezialisierten Anwendungen, einschließlich optischer Antireflexionsbeschichtungen, Beschichtungen für die optische Kommunikation und Beschichtungen für optisches Glas.

1. Optische Antireflexionsbeschichtungen

Dünnschichten, die mit hochreinen Sputtertargets abgeschieden werden, minimieren effektiv die Oberflächenreflexion und maximieren die Lichtdurchlässigkeit. Diese Materialien werden häufig in Objektiven, Kameras, Displays und Photovoltaikglas eingesetzt und verbessern die Bildqualität erheblich und optimieren die optische Energienutzung.

2. Beschichtungen für die optische Kommunikation

Sputtertargets scheiden Filme mit geringen Verlusten und hoher Stabilität ab, was sie ideal für kritische optische Kommunikationskomponenten wie Glasfasern, Wellenleiter und Filter macht. Dies verbessert die Effizienz der Signalübertragung und erhöht die Systemzuverlässigkeit, um die strengen Anforderungen von Hochgeschwindigkeits- und Hochkapazitäts-Kommunikationsnetzen zu erfüllen.

3. Beschichtungen für optisches Glas

Sputtertargets werden zur Abscheidung fortschrittlicher Antireflexions-, kratzfester und optischer Filterbeschichtungen auf optischem Glas verwendet. Diese Beschichtungen verbessern nicht nur die optische Kernleistung und Haltbarkeit von Glas, sondern bieten auch zusätzliche Funktionalitäten wie UV-Schutz, reduzierte Reflexion und Korrosionsbeständigkeit und dienen vielfältigen Anwendungen in Forschung, Medizin und Unterhaltungselektronik.