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Bersaglio di sputtering metallico
Meta di sputtering di alluminio e neodimio (AlNd Sputtering Target)
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Bersaglio per sputtering in silicio-alluminio (bersaglio per sputtering SiAl)
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Obiettivi di sputtering rame-nichel (bersaglio di sputtering CuNi)
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Meta di sputtering di niobio e molibdeno di alta purezza (Monb Sputtering Target)
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Obiettivo di sputtering di stagno di indio (nel bersaglio di supporto)
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Bersaglio per sputtering in carbonio di tungsteno (bersaglio per sputtering WC)
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Bersagli per sputtering in alluminio e titanio ad elevata purezza (bersagli per sputtering TiAl)
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Bersaglio per sputtering in alluminio scandio (bersaglio per sputtering AlSc)
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Bersagli di sputtering di tungsteno (W) per rivestimenti PVD
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Bersaglio per sputtering di zinco (bersaglio per sputtering di zinco) Materiali a film sottile
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Bersagli per sputtering in zirconio ad elevata purezza (bersaglio per sputtering Zr)
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Bersaglio per sputtering zinco-stagno (bersaglio per sputtering ZnSn)
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