ITO Sputtering Target Material Indium Tin Oxide Target per la tecnologia di visualizzazione
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Materiale per bersaglio di sputtering ad alta purezza Si Target per la produzione di semiconduttori
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Bersaglio in rame rotante / planare per rivestimento a sputtering
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990,5% - 99,95% Purezza Titanio Sputter Target Resistenza alla corrosione Ti Target
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Uniformità ad alta densità di purezza Al2O3 Ossido di alluminio bersaglio di sputtering
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Bersagli ceramici di tellururo di zinco ZnTe per materiali di rivestimento
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Filtro sottile ZnO Ossido di zinco bersaglio di sputtering per il processo PVD
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Ossidi di titanio TiOx bersagli ceramici alta purezza per il campo optoelettronico
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Materiale bersaglio di ossido di nichel NiOx per batterie di energia solare
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Materiale Target Ossido di Indio e Zinco IZO per Tecnologia Display
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Bersaglio di ossido di zinco e stagno ZTO Bersagli ceramici Densità relativa ≥98%
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Ag Metalico Silver Sputtering Target con elevata conduttività termica elettrica
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Fusione a vuoto Al Aluminio Target Tecnologia moderna del film sottile
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Bersaglio di sputtering di disprosio ad alta purezza per film magnetici e rivestimenti ottici
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Materiali bersaglio in titanio Ti ad alta resistenza, leggeri e resistenti alla corrosione
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