Bersaglio di sputtering al silicio (bersaglio di sputtering Si)
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Obiettivi cinesi di sputtering di rame (obiettivi di sputtering di Cu)
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Bersaglio per sputtering di ossido di indio-stagno (ITO).
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Bersaglio per sputter in titanio ad elevata purezza (bersaglio per sputter in Ti)
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Obiettivi per sputtering di ossido di alluminio ad alta purezza (bersaglio per sputtering Al₂O₃)
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Bersagli di sputtering di tellururo di zinco (ZnTe) per materiali di rivestimento
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Obiettivi per lo sputtering di ossido di zinco (bersaglio per lo sputtering di ZnO)
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Bersaglio per sputtering rotante in ossido di titanio (bersaglio per sputtering Tiox)
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Processo di sinterizzazione a pressa calda per target di grafite ad alta purezza per sputtering
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Ag Metalico Silver Sputtering Target con elevata conduttività termica elettrica
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Bersaglio per sputtering in platino ad elevata purezza (bersaglio Pt)
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Metale Niobio Sputtering Target Alta densità bassa resistenza Nb Target
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Obiettivo di sputtering dell'oro Purezza del 99,99% (obiettivo di sputtering Au)
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Fusione a vuoto Al Aluminio Target Tecnologia moderna del film sottile
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Bersaglio di sputtering di disprosio ad alta purezza per film magnetici e rivestimenti ottici
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