soluzioni
2026-03-26
Semiconduttore
Materiali bersaglio principali:Cu, Ti, W, SS, AI, Si, Ni, Mo, Cr, Ta, Ag, Au, Pt, Ir, Sc, AISC, NiFe, NiCr, NiCu, WTi, AICu, PZT, LNO, NiV Materiali per evaporazione:Cu, Ni, Ti, W, AI, Mo, Cr, Ta, Ag, Au, Pt, Ir, Y Questi materiali bersaglio sono componenti critici e indispensabili nella produzione ...
2026-03-27
Celle solari fotovoltaiche
Principali materiali di destinazione:AMTO, ICO, IXO, ITO, AZO, MZO, CTO, ZTO, GAZO, ZnO, NiO, SnO₂, Cu, Ni, Ti, Mo, In, Cr, Si, CuGa, ZnTe, CuNi Materiali di evaporazione:ITO, IWSO, IXO, ICO, IMO, ZTO, AZO, GAZO, NiO, Mo, IZRO, ZnO, SnO₂, Cu, In, Se La rapida evoluzione della tecnologia fotovoltaica...
2026-03-27
Ottica
Materiali bersaglio principali:Si, SiB, SiO₂, Nb, Nb₂Ox, Ti, TiOX, Al, Cr, Zr, Hf, Ta, Ge Materiali di evaporazione:MgF₂, Nb₂O₅, Al₂O₃, Ta₂O₅, HfO₂,Ti₃O₅, SiO₂/AI₂O₃, H4, YbF₃, SiO₂, TiO₂, ZrO₂ Questi materiali bersaglio sono essenziali per la deposizione avanzata di film sottili ottici, offrendo ...
2026-03-27
Touch e display intelligenti
Materiali target principali:Si, Nb, Cu, AI, Mo, Ti, Ni, Ag, Yb, SiB, GXO, MoOX, Nb₂Ox, MoNb,AINd, CuNi Materiali per evaporazione:Ag, AI, Yb Nella produzione di touchscreen intelligenti e vari display a schermo piatto, i target di sputtering sono materiali fondamentali per la preparazione di film ...
2026-03-27
Rivestimento duro e rivestimento funzionale
Materiali target principali:Si, Cr, Cu, AI, Ti, Nb, Zr, In, Sn, SS, C, Nb₂Ox, CrSi, CrAl, SiAI,TiAI, InSn, WTi, WC, WCr, TiB₂ I target di sputtering sopra elencati sono materiali fondamentali per la preparazione di film funzionali e strati di miglioramento superficiale in rivestimenti duri e ...
2026-03-27
LOW-E Glass
Principali materiali di destinazione:AZO, ZTO, SiAI, SiZr, ZrOx, NiCr, SiAIZr, ZnSn, ZnAI, TiOX, Nb₂OxAg, Nb, Cr I rivestimenti funzionali per vetro depositano pellicole altamente trasparenti, altamente uniformi, resistenti all'usura e resistenti alla corrosione.conduttività, e anti-riflesso per ...
2026-03-27
Collezionista composito
Principali materiali di destinazione:Cu, NiCr, Al, lega di Cu Nella preparazione di collettori di corrente compositi, gli obiettivi di sputtering sono materiali chiave per la formazione di film conduttivi ad alte prestazioni e strati di interfaccia.Obiettivi di elevata uniformità, film continui che ...
2026-03-27
Permanente di terre rare
Materiali target principali:Tb, Dy, leghe di Tb Utilizzato per la deposizione di film, rivestimenti superficiali e modifiche di interfaccia per migliorare le prestazioni e la stabilità dei materiali magnetici. I target ad alta purezza possono depositare film funzionali uniformi e densi, migliorando ...
2026-03-27
Elettrocromismo
Principali materiali di destinazione:ITO, Ni, W, V, Cu, NiO, WO, VO, WNi, MoNb, AINd Questi materiali consentono la deposizione di pellicole di alta purezza, alta uniformità, densità e stabilità con proprietà ottiche controllate con precisione.Questi obiettivi ad alte prestazioni non solo migliorano ...
2026-03-27
RPD / Materiale di evaporazione
Principali materiali di destinazione:Materiali di Cu, Ti, Al, RPD, Yb, Ni, Ag, ITO, ZrO₂, H4 Questi materiali possono depositare pellicole di alta purezza, altamente uniformi, dense e stabili, ottenendo eccellenti proprietà ottiche, elettriche e meccaniche.Gli obiettivi ad alte prestazioni ...
2026-03-27
Polvere
Polveri principali:Polvere di vetro, nanomateriali, polvere d'argento, polvere ceramica ad alta purezza I nostri prodotti in polveresono costituiti da una vasta gamma di materiali ad alte prestazioni, tra cui polvere di vetro speciale, nanoossidi, polvere d'argento e polvere ceramica di alta purezza...
2026-03-27
Paste
Principali materiali di destinazione:Ag, Al, Cu,ecc. La pasta elettronica è un materiale funzionale specializzato formulato utilizzando polveri di metalli o ossidi di alta purezza come componenti principali, combinate con precisione con vettori organici e additivi specifici.E' dotato di eccellente ...
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