Detalles de los productos
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Objetivos cerámicos de óxido compuesto IGZO Objetivos de óxido de zinc de indio y galio
| Nombre De La Marca: | APG |
| El Tiempo De Entrega: | 4-5 semanas |
| Condiciones De Pago: | T/T |
IGZO Objetivo de óxido de indio gallio zinc
,Objetivos cerámicos compuestos de óxido
,Objetivos cerámicos IGZO
El objetivo IGZO, u objetivo de óxido de indio, galio y zinc, es un objetivo cerámico de óxido compuesto multicomponente fabricado mezclando y sinterizando óxido de indio (In₂O₃), óxido de galio (Ga₂O₃) y óxido de zinc (ZnO) en una proporción específica. Se utiliza ampliamente en procesos de pulverización catódica por magnetrón (PVD) para preparar transistores de película delgada (TFT) de IGZO de alto rendimiento.
En comparación con los materiales tradicionales de silicio amorfo y óxido de zinc, el objetivo IGZO tiene una mayor movilidad, una menor corriente de fuga y una mejor transparencia, lo que lo convierte en un material central para los paneles de visualización de próxima generación de alta resolución (como OLED, 4K, 8K).
Propiedades destacadas del objetivo IGZO (óxido de indio, galio y zinc)
l Alta movilidad de electrones
Aproximadamente 10 veces la del silicio amorfo, lo que mejora significativamente la velocidad de respuesta de los TFT.
l Baja corriente de fuga y bajo consumo de energía
El objetivo IGZO es adecuado para dispositivos de visualización de bajo consumo y productos electrónicos portátiles.
l Excelente transparencia óptica
Alta transmitancia, lo que lo hace adecuado para aplicaciones de visualización de alto brillo.
l Compatibilidad con formación de películas a baja temperatura
Se puede depositar a bajas temperaturas, lo que lo hace adecuado para pantallas flexibles.
l Alta estabilidad y uniformidad
Las películas de objetivo IGZO tienen composiciones densas y estables, lo que las hace adaptables a los requisitos de producción en masa.
Amplias aplicaciones del objetivo IGZO (óxido de indio, galio y zinc)
l Paneles de visualización
El objetivo IGZO es un material TFT de alta calidad que reemplaza al silicio amorfo tradicional y al LTPS. Se utiliza ampliamente en dispositivos de visualización de alta resolución, mejorando la frecuencia de actualización de imagen y la velocidad de respuesta, reduciendo el consumo de energía y siendo adecuado para pantallas de gran tamaño y alto brillo.
l Dispositivos móviles inteligentes
En teléfonos inteligentes, tabletas y otros dispositivos móviles, IGZO optimiza significativamente el rendimiento de la pantalla y la duración de la batería, admite diseños delgados, extiende la duración de la batería y mejora la experiencia táctil.
l Electrónica flexible y vestible
El objetivo IGZO es adecuado para procesos de formación de películas a baja temperatura y se puede depositar en sustratos flexibles como plásticos y PI. Se utiliza ampliamente en teléfonos flexibles, libros electrónicos, papel electrónico, relojes inteligentes, gafas inteligentes y otros dispositivos vestibles, compatible con procesos flexibles, garantizando una formación de película uniforme y un rendimiento estable.
l Nuevas energías y dispositivos electrónicos de bajo consumo
La baja corriente de fuga y la alta estabilidad del objetivo IGZO lo hacen ideal para dispositivos que requieren un funcionamiento estable a largo plazo en aplicaciones industriales. Es adecuado para ordenadores portátiles de bajo consumo, lectores electrónicos, pantallas de control de hogar inteligente, terminales IoT, auriculares AR/VR, ofreciendo una corriente de fuga extremadamente baja, un tiempo de espera prolongado y una experiencia de usuario mejorada.
