ประเภททั้งหมด
ติดต่อเรา
การค้นหาของคุณ
[ito sputtering target ]
การแข่งขัน11
ผลิตภัณฑ์
วัสดุเป้าหมาย ITO Sputtering Indium Tin Oxide เป้าหมายสําหรับเทคโนโลยีการแสดง
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
การพ่นเป้าหมาย การผูกพันธะ กระบวนการผูกติด Friendly Stress Buffering
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
เป้าหมายการกระจาย ZnO ซินคอ๊อกไซด์หนังบาง สําหรับกระบวนการ PVD
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
ทิตาเนียมบอไรด์ TiB2 เป้าหมายการกระจายเชื้อเพลิงเซรามิกสําหรับการเคลือบ PVD
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
MoNb เป้าหมายการกระจายโลหะ ความบริสุทธิ์สูง โมลิบเดนูม ไนโอเบียม เป้าหมาย
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
เป้าสปัตเตอริง AZO ความหนาแน่นสูงผสมอะลูมิเนียมกับซิงค์ออกไซด์
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
990.5% - 99.95% ความบริสุทธิ์ ทิตาเนียม สปุตเตอร์เป้าหมาย ทนทานการกัดกร่อน
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
เป้าหมาย RPD ITO สำหรับการระเหยแบบสุญญากาศด้วยสปัตเตอริงแม่เหล็ก
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
InCeO Indium Cerium Oxide เป้าหมายการผ่านสูง ความต้านทานต่ํา
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
เป้าสังกะสีดีบุกออกไซด์ ZTO Ceramic Targets ความหนาแน่นสัมพัทธ์ ≥98%
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
เป้าหมายความโปร่งใสสูง ZnSn สําหรับแผ่นจอจอสัมผัส
หา ราคา ที่ ดี ที่สุด
1
1
