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ITO Sputtertargetmaterial Indiumzinnoxid-Target für Displaytechnologie

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Sputtering Zielbindung Klebstoffprozess Freundschaftliche Spannungsdämpfung

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Dünnschicht-ZnO-Zinkoxid-Sputtertarget für PVD-Prozess

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Titanborid TiB2 Keramik-Sputterziel für PVD-Beschichtung

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MoNb Metallsputtering Ziel hochreine Molybdän Niobium Ziel

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Aluminiumdotierte Zinkoxid-Targets Hochdichte AZO-Sputtertargets

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990,5% - 99,95% Reinheit Titan Sputter Ziel Korrosionsbeständigkeit Ti Ziel

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RPD ITO Target für Magnetron-Sputter-Vakuumverdampfung

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InCeO Indium-Cer-Oxid Target Hohe Transmission Niedriger Widerstand

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Zink-Zinn-Oxid-Ziel ZTO Keramik-Ziel Relative Dichte ≥98%

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Hochtransparente ZnSn-Targets für Display-Panels und Touchscreens

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