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आईटीओ स्पटरिंग टारगेट मटेरियल इंडियम टिन ऑक्साइड टारगेट फॉर डिस्प्ले टेक्नोलॉजी
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स्पटरिंग लक्ष्य बंधन चिपकने वाली प्रक्रिया अनुकूल तनाव बफरिंग
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पीवीडी प्रक्रिया के लिए पतली फिल्म ZnO जिंक ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य
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टाइटेनियम बोराइड TiB2 सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य PVD कोटिंग के लिए
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MoNb धातु स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता मोलिब्डेनम नाइओबियम लक्ष्य
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एल्यूमीनियम डोप्ड जस्ता ऑक्साइड लक्ष्य उच्च घनत्व AZO स्पटरिंग लक्ष्य
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99.5% - 99.95% शुद्धता टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य संक्षारण प्रतिरोध Ti लक्ष्य
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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वैक्यूम वाष्पीकरण के लिए आरपीडी आईटीओ लक्ष्य
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InCeO इंडियम सेरियम ऑक्साइड लक्ष्य उच्च पारगम्यता कम प्रतिरोध
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जिंक टिन ऑक्साइड लक्ष्य ZTO सिरेमिक लक्ष्य सापेक्ष घनत्व ≥98%
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डिस्प्ले पैनल टचस्क्रीन के लिए उच्च पारदर्शिता ZnSn लक्ष्य
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