Όλες οι κατηγορίες
Μας ελάτε σε επαφή με
Η αναζήτησή σας
[sputtering materials ]
αντιστοιχία55
ΠροϊόνταΣτόχος επιμετάλλωσης νιτριδίου τιτανίου για σκληρές επιστρώσεις (TiN Sputtering Target)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι τερβίου υψηλής καθαρότητας (Tb Sputtering Targets)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Target Sputtering Tantalum High-Purity (Ta Sputtering Target) για PVD
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος ψεκασμού χρωμίου (Στόχος ψεκασμού Cr),Καθαρότητα:990,5%-99,95%
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι Εναπόθεσης Ψευδαργύρου Τελουρίου (ZnTe) για Υλικά Επικάλυψης
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Υψηλής αντοχής Ti τιτανίου Στοχευτικά υλικά Ελαφρύ βάρος Αντίσταση στη διάβρωση
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι νικελίου βαναδίου (NiV Sputtering Targets)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος πλατινένιου sputtering υψηλής καθαρότητας (στόχος Pt)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι ψεκασμού μετάλλων σπάνιων γαιών ιτερβίου (Στόχοι ψεκασμού σπάνιων γαιών ιβ)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχοι ψεκασμού χαφνίου (Hf)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος ψεκασμού αλουμινίου νεοδύμιου (AlNd Sputtering Target)
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος ψεκασμού κυκλωτικού σχήματος σιδηρουργίου SiO2 για επικάλυψη υπό κενό
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος ψεκασμού υψηλής καθαρότητας Dy Dysprosium για μαγνητικές ταινίες
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Ζυρκόνιο διοξείδιο ZRO2 κεραμική για τις διαδικασίες επικάλυψης με ψεκασμό από εξατμίωση
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Στόχος RPD ITO για την εξάτμιση κενού από ψεκασμό μαγνητόρων
Πάρτε την καλύτερη τιμή
Σφουγγαρισμός Στόχος Σύνδεση Κόλληση Φιλική διαδικασία Μαστορίσματος
Πάρτε την καλύτερη τιμή