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Sputtertargets aus hochreinem Graphit (C-Sputtertarget)

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Nioboxid-Sputtertarget (Nb₂Oₓ-Sputtertarget)

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Titanoxid-Rotationssputtertarget (Tiox-Sputtertarget)

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Hochohm-Sputtertarget (GXO Sputtertarget)

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Wolfram-Kohlenstoff-Sputtertarget (WC-Sputtertarget)

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Hochreines Titan-Sputtertarget (Ti-Sputtertarget)

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Titannitrid-Sputtertarget für Hartbeschichtungen (TiN-Sputtertarget)

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Hochreines Tantal-Sputtertarget (Ta-Sputtertarget) für PVD

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Chrom-Sputtertarget (Cr-Sputtertarget), Reinheit: 99,5 % - 99,95 %

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