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[sputtering materials ]
Übereinstimmung55
ProdukteTitannitrid-Sputtertarget für Hartbeschichtungen (TiN-Sputtertarget)
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Hochreine Terbium-Sputtertargets (Tb-Sputtertargets)
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Hochreines Tantal-Sputtertarget (Ta-Sputtertarget) für PVD
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Chrom-Sputtertarget (Cr-Sputtertarget), Reinheit: 99,5 % - 99,95 %
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Zink-Tellurid-Sputterziele für Beschichtungsmaterialien
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Hochfeste Ti-Titan-Targetmaterialien Leichtgewicht Korrosionsbeständigkeit
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Nickel-Vanadium-Sputtertargets (NiV-Sputtertargets)
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Hochreines Platin-Sputtertarget (Pt-Target)
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Ytterbium Seltenerd-Metall-Sputtertargets (Yb-Sputtertargets)
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Hafniumspritzerziele (Hf)
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Sputtering Zielbindung Klebstoffprozess Freundschaftliche Spannungsdämpfung
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