Tất cả các loại
Liên hệ với chúng tôi
Tìm kiếm của bạn
[sputtering materials ]
trận đấu55
Các sản phẩmMục tiêu phún xạ Titan Nitride cho lớp phủ cứng (Mục tiêu phún xạ TiN)
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phún xạ Terbium có độ tinh khiết cao (Mục tiêu phún xạ Tb)
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phún xạ tantalum có độ tinh khiết cao(Mục tiêu phún xạ Ta) cho PVD
Nhận được giá tốt nhất
Chrom Sputtering Target (Cr Sputtering Target), Độ tinh khiết:990,5%-99,95%
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phún xạ Telluride Kẽm (ZnTe) cho vật liệu phủ
Nhận được giá tốt nhất
Các vật liệu mục tiêu Ti Titanium cường độ cao Kháng chống ăn mòn
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phún xạ Niken Vanadi (Mục tiêu phún xạ NiV)
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phún xạ bạch kim có độ tinh khiết cao (Mục tiêu Pt)
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phún xạ đất hiếm Ytterbium (Mục tiêu phún xạ Yb)
Nhận được giá tốt nhất
Các mục tiêu phun Hafnium (Hf)
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phún xạ Nhôm Neodymium (Mục tiêu phún xạ AlNd)
Nhận được giá tốt nhất
Mục tiêu phun SiO2 thạch anh hình nhẫn cho lớp phủ chân không
Nhận được giá tốt nhất
Gốm Zirconium Dioxide ZRO2 cho Quy trình Phủ Phún Xạ Bay Hơi
Nhận được giá tốt nhất
RPD ITO mục tiêu cho Magnetron Sputtering Vacuum Evaporation
Nhận được giá tốt nhất