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[sputtering materials ]
일치55
제품하드 코팅용 질화 티타늄 스퍼터링 타겟(TiN 스퍼터링 타겟)
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고순도 테르븀 스퍼터링 타겟(Tb Sputtering Targets)
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PVD용 고순도 탄탈륨 스퍼터링 타겟(Ta 스퍼터링 타겟)
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크롬 스퍼터링 타겟 (Cr 스퍼터링 타겟), 순도: 99.5%-99.95%
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高強度チタンターゲット材料 軽量 耐食性
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니켈바나듐 스퍼터링 타겟(NiV Sputtering Targets)
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고순도 백금 스퍼터링 타겟(Pt 타겟)
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이트륨 희토류 금속 스퍼터링 타겟(Yb 스퍼터링 타겟)
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하프늄 스퍼터링 타겟 (Hf)
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알루미늄 네오디엄 스프터링 타겟 (AlNd Sputtering Target)
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진공 코팅을 위한 고리 모양의 쿼츠 SiO2 스프터링 타겟
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자기 필름 및 광학 코팅용 고순도 디스프로슘(Dy) 스퍼터링 타겟
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지르코늄 이산화 ZRO2 세라믹 스프터링 코팅 프로세스를 위한 증발
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마그네트론 스프터링 진공 증발을 위한 RPD ITO 목표물
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スパッタリングターゲットボンディング接着剤プロセスフレンドリーストレスバッファリング
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