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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वाष्पीकरण आयन प्लेटिंग के लिए पीटी प्लैटिनम लक्ष्य
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स्पटरिंग लक्ष्य बंधन चिपकने वाली प्रक्रिया अनुकूल तनाव बफरिंग
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स्पटरिंग पल्स्ड लेजर डिपोजिशन के लिए नाइओबियम ऑक्साइड Nb2O5 टारगेट
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अनुकूलन योग्य आकार क्रोमियम लक्ष्य रोटरी / प्लैनर सीआर स्पटरिंग लक्ष्य
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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वैक्यूम वाष्पीकरण के लिए आरपीडी आईटीओ लक्ष्य
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क्रिस्टल लैंथेनम टाइटनेट LaTiO3 स्पटरिंग वाष्पीकरण पतली फिल्म सामग्री
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99.5% - 99.95% शुद्धता टाइटेनियम स्पटर लक्ष्य संक्षारण प्रतिरोध Ti लक्ष्य
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उत्कृष्ट तन्यता और मजबूती वाली Ni वाष्पीकरण सामग्री निकेल लक्ष्य
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Cu वाष्पीकरण सामग्री उच्च चालकता तांबे के सिल्लियां छर्रों के टुकड़े
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धातु समर्थन लक्ष्य के लिए उच्च घनत्व डब्ल्यू वोल्फ्रेम लक्ष्य
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कोटिंग सामग्री के लिए जिंक टेलुराइड ZnTe सिरेमिक लक्ष्य
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नैनो टिन इंडियम जिंक कॉपर बिस्मथ सेरियम ऑक्साइड पाउडर इलेक्ट्रोप्लेटिंग के लिए
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CuNi कॉपर निकल मिश्र धातु लक्ष्य
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वैक्यूम पिघलने एल्यूमीनियम लक्ष्य आधुनिक पतली फिल्म प्रौद्योगिकी
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InCeO इंडियम सेरियम ऑक्साइड लक्ष्य उच्च पारगम्यता कम प्रतिरोध
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डिस्प्ले पैनल टचस्क्रीन के लिए उच्च पारदर्शिता ZnSn लक्ष्य
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