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कठोर कोटिंग्स के लिए टाइटेनियम नाइट्राइड स्पटरिंग लक्ष्य (TiN स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता टेरबियम स्पटरिंग लक्ष्य (टीबी स्पटरिंग लक्ष्य)
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पीवीडी के लिए उच्च शुद्धता टैंटलम स्पटरिंग लक्ष्य (टा स्पटरिंग लक्ष्य)।
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क्रोमियम स्पटरिंग लक्ष्य (Cr स्पटरिंग लक्ष्य), शुद्धता: 99.5%-99.95%
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जिंक टेलुराइड स्पटरिंग टारगेट (ZnTe) कोटिंग सामग्री के लिए
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उच्च शक्ति टी टाइटेनियम लक्ष्य सामग्री हल्के संक्षारण प्रतिरोध
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निकेल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य (NiV स्पटरिंग लक्ष्य)
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उच्च शुद्धता प्लेटिनम स्पटरिंग लक्ष्य (पीटी लक्ष्य)
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येटर्बियम दुर्लभ पृथ्वी धातु स्पटरिंग लक्ष्य (Yb स्पटरिंग लक्ष्य)
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हाफनियम स्पटरिंग लक्ष्य (Hf)
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एल्यूमीनियम नियोडियम स्पटरिंग लक्ष्य (AlNd स्पटरिंग लक्ष्य)
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वैक्यूम कोटिंग के लिए रिंग के आकार का क्वार्ट्ज SiO2 स्पटरिंग लक्ष्य
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वाष्पीकरण स्पटरिंग कोटिंग प्रक्रियाओं के लिए जिरकोनियम डाइऑक्साइड ZRO2 सिरेमिक
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मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग वैक्यूम वाष्पीकरण के लिए आरपीडी आईटीओ लक्ष्य
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स्पटरिंग लक्ष्य बंधन चिपकने वाली प्रक्रिया अनुकूल तनाव बफरिंग
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