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उत्पादों का विवरण

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लक्ष्य सामग्री का छिड़काव
Created with Pixso. उच्च शुद्धता स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री सेमीकंडक्टर निर्माण के लिए सीआई लक्ष्य  
विस्तृत जानकारी
उत्पत्ति के प्लेस:
चीन
प्रमाणन:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
पवित्रता:
क्रिस्टलीय सिलिकॉन की शुद्धता 99.999% है, और Hsi की शुद्धता 99.99% है
घनत्व:
2.33 ग्राम/सेमी³
नाम:
सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य (सी स्पटरिंग लक्ष्य)
गठन प्रक्रिया:
छिड़काव, सिंटरिंग, क्रिस्टल ग्रोथ
उत्पाद विशिष्टताएँ:
समतल लक्ष्य, घूमने वाला लक्ष्य
अनुप्रयोग फ़ील्ड:
ऑप्टिकल डिवाइस विनिर्माण, सेमीकंडक्टर विनिर्माण, सेंसर विनिर्माण
पैकेजिंग विवरण:
वैक्यूम-सीलबंद पैकेजिंग, भंडारण और परिवहन के लिए केस-पैक
आपूर्ति की क्षमता:
स्थिर आपूर्ति
प्रमुखता देना:

सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य

,

Si स्पटरिंग लक्ष्य

,

सिलिकॉन Si लक्ष्य

उत्पाद का वर्णन

उच्च शुद्धता सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री: पतली फिल्म जमाव के लिए कोर सामग्री

सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का उपयोग भौतिक वाष्प जमाव (PVD) प्रक्रियाओं में किया जाता है, मुख्य रूप से सिलिकॉन ऑक्साइड, सिलिकॉन नाइट्राइड और सिलिकॉन हाइड्राइड जैसे मध्यम परतों को जमा करने के लिए। इसे क्रिस्टलीय सिलिकॉन और HSi प्रकारों में विभाजित किया जा सकता है। सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य आमतौर पर गहरे भूरे रंग के अर्ध-धातुई उपस्थिति और लगभग 2.33 ग्राम/सेमी³ के घनत्व के साथ होते हैं। सिलिकॉन का गलनांक 1414°C है, और इसका क्वथनांक 3265°C है। सिलिकॉन में उच्च तापीय चालकता गुणांक (149 W·m⁻¹·K⁻¹) और उत्कृष्ट तापीय चालकता होती है। इसके अतिरिक्त, सिलिकॉन लक्ष्य सामग्री में अच्छी कठोरता, ऑप्टिकल गुण, घर्षण प्रतिरोध और उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध होता है।

सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री के उत्कृष्ट गुण:

 

l उच्च शुद्धता स्थिर पतली फिल्म प्रदर्शन सुनिश्चित करती है


क्रिस्टलीय सिलिकॉन की शुद्धता 99.999% है, जबकि HSi की शुद्धता 99.99% है

 

 

l उत्कृष्ट पतली फिल्म एकरूपता और घनत्व


सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्यों में उच्च स्पटरिंग दक्षता होती है और यह PVD प्रक्रिया में विभिन्न वैक्यूम कोटिंग उपकरणों के साथ संगत है। साथ ही, सिलिकॉन परमाणुओं में सामान्य सब्सट्रेट्स (जैसे कांच, धातु, सिलिकॉन वेफर्स) के प्रति अच्छा आसंजन होता है, जो उच्च विश्वसनीयता आवश्यकताओं को पूरा करने वाली स्थिर, गैर-छिलने वाली फिल्में बनाते हैं।

 

 

l अच्छा स्पटरिंग दर और आसंजन


सिलिकॉन की अच्छी तापीय चालकता लक्ष्य सतह से गर्मी को जल्दी से दूर करने में मदद करती है, जिससे स्थानीय अति ताप को रोका जा सकता है। साथ ही, इसकी चालकता मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग के लिए आवश्यक है, जो कुशल फिल्म जमाव में सहायता करती है।

 

 सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री के व्यापक अनुप्रयोग

 

l ऑप्टिकल डिवाइस निर्माण


उच्च शुद्धता: सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य ऑप्टिकल उपकरणों की स्पष्टता, स्थिरता और सटीकता सुनिश्चित करते हैं, उनके प्रदर्शन और विश्वसनीयता को बढ़ाते हैं। एंटी-रिफ्लेक्शन और सुरक्षात्मक परतें: फाइबर ऑप्टिक संचार औरएकीकृत ऑप्टिकल सर्किट में, सिलिकॉन डाइऑक्साइड फिल्मों का उपयोग वेवगाइड सामग्री के रूप में ऑप्टिकल संकेतों को प्रसारित और संसाधित करने के लिए किया जाता है।

 

 

l सेमीकंडक्टर निर्माण

 

एलईडी के लिए सब्सट्रेट और पैकेजिंग सामग्री तैयार करने के लिए उपयोग किया जाता है, जिससे एलईडी की चमकदार दक्षता और स्थिरता में सुधार होता है।

 

 

l सेंसर निर्माण

 

सेंसर तत्वों और सिग्नल प्रोसेसिंग सर्किट के उत्पादन में उपयोग किया जाता है, जिससे सेंसर की संवेदनशीलता और सटीकता बढ़ती है

 

 

सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य कोट का अनुरोध करें

कृपया सामग्री ग्रेड, आवश्यक शुद्धता, लक्ष्य आयाम, मात्रा और बॉन्डिंग आवश्यकताओं को निर्दिष्ट करें जबAPG से संपर्क करें। संबंधित सामग्रियों के लिए हमारेस्पटरिंग लक्ष्यों का अन्वेषण करें।