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prodottiMateriali per sputtering a film sottile in blocco di indio
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Materiali bersaglio in titanio Ti ad alta resistenza, leggeri e resistenti alla corrosione
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Bersaglio in rame rotante / planare per rivestimento a sputtering
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Mo Metale bersaglio di sputtering di molibdeno bersaglio di sputtering
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Ag Metalico Silver Sputtering Target con elevata conduttività termica elettrica
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Materiale per bersaglio di sputtering di zinco (Zn) con eccellente conducibilità elettrica
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Risistenza alla corrosione del materiale bersaglio per lo sputtering di zirconio Zr ad alta purezza
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Target di sputtering metallico a rapporto personalizzabile Target di lega di nichel vanadio NiV
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Titanio boruro TiB2 bersaglio di sputtering ceramico per rivestimento PVD
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Ytterbium Yb Metale di terre rare bersaglio di sputtering Uniformità ad alta densità
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Target di sputtering di metallo di indio ad alta purezza In Target Tecnologia del film sottile sottovuoto
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Obiettivo di sputtering di scandio in alluminio AlSc piatto / rotante
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Obiettivo di sputtering di nichel Resistenza alla corrosione Obiettivo piatto Obiettivo rotante
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Bersaglio di sputtering di terbio Tb Metallo delle terre rare Bersagli di sputtering
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Metale di alta purezza per lo sputtering di TiAI Metale di titanio Metale di alluminio
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Materiale per bersaglio di sputtering ad alta purezza Si Target per la produzione di semiconduttori
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