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ProdottiMateriali per sputtering a film sottile in blocco di indio
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Obiettivi cinesi di sputtering di rame (obiettivi di sputtering di Cu)
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Bersaglio di sputtering al silicio (bersaglio di sputtering Si)
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Obiettivi per lo sputtering di ossido di zinco (bersaglio per lo sputtering di ZnO)
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Bersaglio per sputtering di zinco (bersaglio per sputtering di zinco) Materiali a film sottile
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Bersagli di sputtering in argento (bersaglio di sputtering Ag)
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Bersagli Sputtering Indio (nei bersagli Sputtering)
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Obiettivi di sputtering rame-nichel (bersaglio di sputtering CuNi)
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Bersaglio per sputtering di ossido di indio-stagno (ITO).
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Bersaglio sputtering al molibdeno (bersaglio sputtering Mo)
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Bersaglio sputtering con ossido di zinco drogato con alluminio (bersaglio sputtering AZO)
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Obiettivi di Sputtering di Alluminio (Obiettivi di Sputtering di Al)
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Bersagli per sputtering in alluminio e titanio ad elevata purezza (bersagli per sputtering TiAl)
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Bersagli per sputtering in carburo di silicio (bersaglio per sputtering SiC)
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Bersagli sputtering di ossido di indio cerio (bersagli sputtering ICO)
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