Target Sputtering Skandium Aluminium (Target Sputtering AlSc)

Target sputtering aluminium-skandium adalah target paduan berkinerja tinggi yang dibuat dari logam aluminium dan skandium dalam rasio tertentu. Target ini menggabungkan bobot ringan aluminium serta konduktivitas listrik dan termal yang sangat baik dengan manfaat penguatan, pemurnian butir, dan stabilitas termal dari penambahan skandium. Target ini biasanya diproduksi menggunakan proses seperti peleburan vakum, metalurgi serbuk, dan penekanan isostatik panas. Produk jadi memiliki struktur padat, komposisi seragam, dan kandungan pengotor rendah, sehingga cocok untuk deposisi film tipis canggih, pemrosesan semikonduktor, dan pembuatan panel layar.

Keunggulan Inti Target Sputtering Aluminium-Skandium

 Kekuatan Tinggi dan Bobot Ringan

Penambahan skandium dapat menghambat pertumbuhan butir pada paduan kaya aluminium, membentuk struktur butir halus yang meningkatkan kekuatan, ketangguhan, dan ketahanan lelah. Pada saat yang sama, densitas rendah aluminium berkontribusi pada material yang ringan. Properti ini bergantung pada komposisi paduan dan proses manufaktur.

 Stabilitas Termal yang Baik

Titik leleh skandium yang tinggi memberikan stabilitas suhu tinggi yang sangat baik pada paduan. Target sputtering paduan aluminium-skandium tahan terhadap reaksi kimia atau penurunan kinerja di lingkungan bersuhu tinggi, mempertahankan sifat fisik dan kimia yang baik.target

 Konduktivitas Unggul

Film paduan aluminium-skandium memiliki resistivitas rendah, membentuk saluran arus yang efisien dalam perangkat. Meskipun konduktivitasnya sedikit lebih rendah daripada aluminium murni, target ini mempertahankan profil listrik yang unggul, memastikan kinerja fidelitas tinggi dalam aplikasi semikonduktor dan elektronik.

 Ketahanan Korosi yang Kuat

Ketahanan korosi paduan aluminium-skandium disebabkan oleh lapisan oksida yang terbentuk di permukaan aluminium dan stabilitas kimia skandium yang tinggi. Hal ini memungkinkan paduan bekerja dengan sangat baik di lingkungan yang korosif secara kimia.

Sifat Piezoelektrik yang Baik: Ketika target sputtering aluminium-skandium digunakan untuk menyiapkan film AlN yang didoping Sc, sifat piezoelektriknya meningkat secara signifikan. Misalnya, doping 35% atom Sc ke dalam AlN dapat meningkatkan kinerja piezoelektriknya (Keff²) menjadi 15,5%, yang 2,6 kali lebih tinggi daripada AlN murni (Keff2 sebesar 6%).l

Industri Dirgantara

 l

Industri Elektronik

 l

Bidang Optik dan Optoelektronikl

 Dalam sel surya, film target aluminium-skandium dapat digunakan sebagai bahan elektroda untuk mengurangi resistivitas film dan meningkatkan konduktivitas elektroda, sehingga meningkatkan keluaran energi sel surya. Dalam baterai elektrokimia, film aluminium-skandium meningkatkan stabilitas elektroda dan ketahanan korosi, memperpanjang masa pakai baterai.

l

 Film yang dihasilkan dari target sputtering aluminium-skandium memiliki biokompatibilitas dan ketahanan korosi yang sangat baik, sehingga cocok untuk permukaan implan medis, seperti implan ortopedi dan stent kardiovaskular. Film ini secara efektif meningkatkan ketahanan aus implan, memperpanjang masa pakainya, dan mengurangi risiko operasi sekunder.