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Detalles de los productos

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Objetivo de pulverización de metales
Created with Pixso. Diana de pulverización catódica de niobio de metal, alta densidad, baja resistencia, objetivo de Nb
Información detallada
Lugar de origen:
Porcelana
Certificación:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Parámetro:
Densidad
Valor:
Objetivo de niobio recubierto por pulverización: Densidad: >8 g/cm³ Objetivo de niobio fundido: D
Nombre:
Objetivo de niobio (Nb)
Proceso de formación:
Pulverización, fusión
Especificaciones del producto:
Objetivos planos, objetivos giratorios
Escenarios de aplicación:
Fabricación de semiconductores, Fabricación de dispositivos ópticos, Recubrimientos decorativos
Detalles de empaquetado:
Envasado al vacío, embalado en cajas para almacenamiento y transporte.
Capacidad de la fuente:
Fuente estable
Resaltar:

Diana de pulverización catódica de niobio de metal

,

Diana de niobio Nb

,

Diana de Nb de alta densidad

Descripción de producto

El objetivo de niobio está hecho de metal de niobio de alta pureza (pureza > 99,95%). El niobio es un metal de transición de color gris plateado, raro, blando y dúctil con un alto punto de fusión (2468 °C), excelente resistencia a la corrosión (resistencia a la corrosión por ácidos/álcalis fuertes a temperatura ambiente< 0,01 mm/año), y buena conductividad.

Los objetivos de niobio alcanzan un nivel de pureza superior al 99,95%, caracterizado por un tamaño de grano refinado y una microestructura completamente recristalizada. El material presenta una excelente consistencia triaxial, lo que, como objetivo de pulverización catódica, facilita la formación de una película de óxido altamente uniforme. Esta capa protectora inerte permanece no reactiva con los elementos atmosféricos, asegurando la estabilidad de la superficie a largo plazo.

Excelentes propiedades del objetivo de niobio

 

l Alta densidad, baja resistencia, tamaño de grano fino

 

 l Alta movilidad de huecos en películas, alta transmitancia óptica, excelente adaptación de interfaz

 

 l Bajas impurezas no metálicas (C, N, O)

 

 Amplias aplicaciones del objetivo de niobio

 

l Fabricación de semiconductores


El objetivo de niobio juega un papel clave en la fabricación de chips: a través de la pulverización catódica magnetrón, puede depositar una película delgada de niobio de hasta 200 nm en una oblea de silicio. Este recubrimiento ultrafino mejora eficazmente la conductividad y la resistencia a la corrosión de los circuitos integrados, convirtiéndolo en uno de los materiales centrales para chips 5G y dispositivos de memoria.

 

 

l Fabricación de dispositivos ópticos


Cuando el objetivo de niobio se une a la tecnología de recubrimiento óptico, crea reacciones químicas notables:

 

Recubrimientos de lentes de cámara: aumentan la transmitancia de luz al 99,7%;

 

Recubrimientos de gafas AR: permiten la transmisión selectiva de luz;

 

Espejos láser: soportan altas temperaturas de hasta 1800 °C.

 

Estas propiedades hacen que el objetivo de niobio sea indispensable en aplicaciones que van desde cámaras de teléfonos inteligentes hasta telescopios.

 

 

l Recubrimientos decorativos

 

El objetivo de niobio es muy apreciado en recubrimientos decorativos debido a su exclusiva capacidad de ajuste de color y su excelente rendimiento. Mediante anodizado o pulverización catódica magnetrón, los recubrimientos de niobio pueden mostrar una gama de colores, incluyendo azul, púrpura y dorado, al tiempo que ofrecen resistencia a la corrosión, alta dureza y biocompatibilidad. Se utiliza ampliamente en los recubrimientos decorativos de relojes de alta gama, joyas, productos electrónicos y dispositivos de belleza médica.