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Einzelheiten zu den Produkten

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Ziel für Metallsputtern
Created with Pixso. Metall-Niob-Sputtertarget Hohe Dichte Niedriger Widerstand Nb-Target
Ausführliche Information
Herkunftsort:
China
Zertifizierung:
ISO9001、ISO14001、ISO45001、IAFT16949
Parameter:
Dichte
Wert:
Sprühbeschichtetes Niob-Target: Dichte: >8 g/cm³ Geschmolzenes Niob-Target: Dichte: 8,57 g/cm³
Name:
Niob-Target (Nb)
Bildungsprozess:
Sprühen, Schmelzen
Produktspezifikationen:
Flache Ziele, rotierende Ziele
Anwendungsszenarien:
Halbleiterfertigung, Herstellung optischer Geräte, dekorative Beschichtungen
Verpackung Informationen:
Vakuumversiegelte Verpackung, kartonverpackt für Lagerung und Transport
Versorgungsmaterial-Fähigkeit:
Stabile Versorgung
Hervorheben:

Metall-Niob-Sputtertarget

,

Niob Nb-Target

,

Hohe Dichte Nb-Target

Produkt-Beschreibung

Das Niob-Target besteht aus hochreinem Niobmetall (Reinheit > 99,95 %). Niob ist ein silber-graues, seltenes, weiches und duktiles Übergangsmetall mit einem hohen Schmelzpunkt (2468°C), ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit (Beständigkeit gegen starke Säure-/Laugenkorrosion bei Raumtemperatur < 0,01 mm/Jahr) und guter Leitfähigkeit.

Die Niob-Targets erreichen eine Reinheit von über 99,95 %, gekennzeichnet durch eine feine Korngröße und eine vollständig rekristallisierte Mikrostruktur. Das Material weist eine ausgezeichnete triaxiale Konsistenz auf, die als Kathodenzerstäubungs-Target die Bildung eines hochgradig gleichmäßigen Oxidfilms erleichtert. Diese inerte Schutzschicht bleibt reaktionslos gegenüber atmosphärischen Elementen und gewährleistet eine langfristige Oberflächenstabilität.

Hervorragende Eigenschaften des Niob-Targets

 

l Hohe Dichte, geringer Widerstand, feine Korngröße

 

 l Hohe Lochmobilität in Filmen, hohe optische Transmission, ausgezeichnete Grenzflächenanpassung

 

 l Geringe nichtmetallische Verunreinigungen (C, N, O)

 

 Breite Anwendungen des Niob-Targets

 

l Halbleiterfertigung


Das Niob-Target spielt eine Schlüsselrolle bei der Chipfertigung – durch Magnetronsputtern kann ein Niob-Dünnfilm von nur 200 nm auf einen Siliziumwafer aufgetragen werden. Diese ultradünne Beschichtung verbessert effektiv die Leitfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit von integrierten Schaltkreisen und macht sie zu einem der Kernmaterialien für 5G-Chips und Speichergeräte.

 

 

l Herstellung optischer Geräte


Wenn Niob-Target auf optische Beschichtungstechnologie trifft, entstehen bemerkenswerte chemische Reaktionen:

 

Beschichtungen für Kameralinsen: Erhöhung der Lichttransmission auf 99,7 %;

 

Beschichtungen für AR-Brillen: Ermöglichung selektiver Lichttransmission;

 

Laser-Spiegel: Widerstandsfähigkeit gegen hohe Temperaturen bis zu 1800°C.

 

Diese Eigenschaften machen Niob-Target unverzichtbar in Anwendungen, die von Smartphone-Kameras bis zu Teleskopen reichen.

 

 

l Dekorative Beschichtungen

 

Niob-Target ist aufgrund seiner einzigartigen Farbverstellbarkeit und hervorragenden Leistung bei dekorativen Beschichtungen sehr beliebt. Durch Anodisieren oder Magnetronsputtern können Niob-Beschichtungen eine Reihe von Farben aufweisen, darunter Blau, Lila und Gold, und bieten gleichzeitig Korrosionsbeständigkeit, hohe Härte und Biokompatibilität. Es wird häufig in dekorativen Beschichtungen von High-End-Uhren, Schmuck, elektronischen Produkten und medizinischen Schönheitsgeräten verwendet.